【題目】下列物質(zhì)的酸性強弱比較正確的是(　　)

A. HBrO4<HIO4 B. H2SO4<H3PO4 C. HClO3<HClO D. H2SO4>H2SO3

【答案】D

【解析】A、非金屬性越強，其最高價氧化物對應水化物的酸性越強，因此酸性強弱是HBrO4>HIO4，故A錯誤；B、H2SO4屬于強酸，H3PO4屬于中強酸，因此H2SO4酸性強于H3PO4，故B錯誤；C、同種元素的含氧酸，化合價越高，酸性越強，即HClO3的酸性強于HClO，D、H2SO3屬于弱酸，因此H2SO4的酸性強于H2SO3，故D正確。

練習冊系列答案
相關(guān)習題

科目：高中化學 來源： 題型：

【題目】元素周期律產(chǎn)生的根本原因就是隨著元素原子序數(shù)的遞增

A. 元素的相對原子質(zhì)量逐漸增大

B. 核外電子排布呈周期性變化

C. 原子半徑呈周期性變化

D. 元素主要化合價呈周期性變化

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科目：高中化學 來源： 題型：

【題目】放熱反應CO(g)＋H2O(g)CO2(g)＋H2(g)在溫度t1時達到平衡，c1(CO)＝c1(H2O)＝1.0 mol·L－1，其平衡常數(shù)為K1。升高反應體系的溫度至t2時，反應物的平衡濃度分別為c2(CO)和c2(H2O)，平衡常數(shù)為K2，則(　　)

A. K2和K1的單位均為mol·L－1

B. K2>K1

C. c2(CO)＝c2(H2O)

D. c1(CO)>c2(CO)

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科目：高中化學 來源： 題型：

【題目】硫代硫酸鈉晶體（Na2S2O3·5H2O，M=248 g·mol1）可用作定影劑、還原劑�；卮鹣铝袉栴}：

（1）已知：Ksp(BaSO4)=1.1×1010，Ksp(BaS2O3)=4.1×105。市售硫代硫酸鈉中常含有硫酸根雜質(zhì)，選用下列試劑設計實驗方案進行檢驗：

試劑：稀鹽酸、稀H2SO4、BaCl2溶液、Na2CO3溶液、H2O2溶液

實驗步驟

現(xiàn)象

①取少量樣品，加入除氧蒸餾水

②固體完全溶解得無色澄清溶液

③___________

④___________，有刺激性氣體產(chǎn)生

⑤靜置，___________

⑥___________

（2）利用K2Cr2O7標準溶液定量測定硫代硫酸鈉的純度。測定步驟如下：

①溶液配制：稱取1.2000 g某硫代硫酸鈉晶體樣品，用新煮沸并冷卻的蒸餾水在__________中溶解，完全溶解后，全部轉(zhuǎn)移至100 mL的_________中，加蒸餾水至____________。

②滴定：取0.00950 mol·L1的K2Cr2O7標準溶液20.00 mL，硫酸酸化后加入過量KI，發(fā)生反應： Cr2O72+6I+14H+3I2+2Cr3++7H2O。然后用硫代硫酸鈉樣品溶液滴定至淡黃綠色，發(fā)生反應：I2+2S2O32S4O62+2I。加入淀粉溶液作為指示劑，繼續(xù)滴定，當溶液__________，即為終點。平行滴定3次，樣品溶液的平均用量為24.80 mL，則樣品純度為_________%（保留1位小數(shù)）。

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科目：高中化學 來源： 題型：

【題目】NA表示阿伏加德羅常數(shù)，下列說法正確的是

A. 162g淀粉和纖維素混合物中氧原子的數(shù)目為5NA

B. 常溫時，pH=5的鹽酸中水電離的OH－數(shù)目為10－9NA

C. 5mol的CH3COONa固體溶于水所得溶液中CH3COO－數(shù)目為5NA

D. 22.4L Cl2與足量的鐵反應，轉(zhuǎn)移的電子數(shù)目為2NA

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科目：高中化學 來源： 題型：

【題目】在元素周期表中，某些主族元素與右下方主族元素的有些性質(zhì)是相似的，被稱為“對角線”規(guī)則，如：Li和Mg、Be和Al、B和Si。下列說法不正確的是

A. Li在N2中燃燒生成Li3N B. LiOH是極易溶的強堿

C. Be（OH）2既能溶于強酸又能溶于強堿溶液 D. 硼酸鈉溶液顯堿性

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科目：高中化學 來源： 題型：

【題目】為比較Fe3+和Cu2+對H2O2分解的催化效果，某化學研究小組的同學分別設計了如圖甲、乙所示的實驗．下列敘述中不正確的是（　　）

A. 實驗中H2O2分解的速率為（1）＞（2）

B. 圖乙實驗可通過測定相同狀況下，產(chǎn)生的氣體體積與反應時間來比較反應速率

C. H2O2分解的熱化學方程式2H2O2（l）═2H2O（l）+O2（g）△H＞0

D. 圖甲中（1）、（2）兩個實驗中H2O2分解的△H相同

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科目：高中化學 來源： 題型：

【題目】半導體工業(yè)需要高純硅，粗硅中含有SiO2、Fe2O3、CuO、C等雜質(zhì)，提純硅的方法比較多，其中三氯氫硅(有一定毒性)氫還原法和四氯化硅氫還原法應用較為廣泛，下面是實驗室模擬工業(yè)上三氯氫硅氫還原法的基本原理：

已知：①Si+3HCl SiHCl3+H2(主要反應)

Si+4HClSiCl4+2H2(次要反應)

2NaCl+H2SO4(濃)Na2SO4+2HCl↑

②典型硅的重要化合物的部分性質(zhì)如下表：

熔點(℃)

沸點(℃)

溶解性

SiHCl3

-127

33

易溶于多數(shù)有機溶劑

SiCl4

-23

77

易溶于多數(shù)有機溶劑

(1)粗硅在提純前，需要進行酸、堿預處理，其目的是___________________________________。

(2)下列裝置在實驗室可用于制備HCl氣體的是_____(填字母代號)。

(3)在1100～1200℃條件下，利用圖B在石英管中可以獲得硅，寫出該反應的方程式_______；其燒杯中水的作用是__________________________；該裝置使用石英管而不是普通玻璃管的原因是_________。

(4)三氯氫硅氫還原法用 SiHCl3在圖B中制硅，不足之處有_______________(任意回答一點即可)。

(5)SiCl4與氫氣反應也能得到硅，但反應所需溫度不同，在工業(yè)上往往將三氯氫硅中混入的SiCl4分離后再與氫氣反應，你認為最好的分離方法是______________。

(6)工業(yè)上如果用四氯化硅氫還原法制硅，其原理如下：該方法與用三氯氫硅氫還原法比較，其缺點至少有兩處，分別是_________________。

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科目：高中化學 來源： 題型：

【題目】短周期主族元素R、W、X、Y、Z的原子序數(shù)依次增大，R的簡單氫化物可用作制冷劑，X是短周期中金屬性最強的元素。Y的簡單離子在同周期元素的簡單離子中半徑最小，由W、X和Z三種元素形成的一種鹽溶于水后，加入稀鹽酸，有黃色沉淀(Z的單質(zhì))析出，同時產(chǎn)生有刺激性氣味的氣體(Z的氧化物)。下列說法正確的是( )

A. 原子半徑：Z>Y>X>W

B. Z的簡單氫化物的熱穩(wěn)定性比W的強

C. Y的氧化物既可溶于R的最高價氧化物對應的水化物水溶液，也可溶于R的氫化物水溶液

D. X與W、Z形成的化合物不少于三種

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