【題目】下列物質的用途錯誤的是( )
A.明礬:凈水劑B.過氧化鈉:供氧劑和漂白劑
C.碳酸氫鈉:胃酸中和劑D.生石灰:食品抗氧化劑
科目:高中化學 來源: 題型:
【題目】在容積不變的密閉容器中存在如下反應:2SO2(g)+O2(g) 2SO3(g) ΔH<0。在其他條件一定,只改變某一條件時,下列分析不正確的是
A. 圖Ⅰ表示的是t1時刻增大壓強對反應速率的影響
B. 圖Ⅱ表示的是t1時刻加入催化劑對反應速率的影響
C. 圖Ⅲ表示的是溫度對平衡的影響,且甲的溫度小于乙的溫度
D. 圖Ⅲ表示的是催化劑對化學平衡的影響,乙使用了催化劑
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科目:高中化學 來源: 題型:
【題目】I.如圖所示為常見玻璃儀器的部分結構:
(1)請寫出所列儀器的名稱:A__________,B____________;C_____________;
(2)儀器 B 使用前必須______________________。
(3)儀器 B 上標記有__________________(填序號);
①質量 ②溫度 ③刻度線 ④濃度 ⑤容積
II. 某無色工業(yè)廢水中可能含有Na+、Mg2+、Al3+、Cl-、SO42-中的幾種離子。
a.取少許該廢水于試管中,加入足量的Ba(NO3)2溶液和稀硝酸,產(chǎn)生白色沉淀,充分反應后過濾,向濾液中加入AgNO3溶液無沉淀產(chǎn)生。
b.另取10mL該廢水于試管中,滴加NaOH溶液先產(chǎn)生白色沉淀,后部分沉淀溶解。生成沉淀的物質的量隨加入NaOH的物質的量關系如下圖所示。
根據(jù)上述實驗和圖中數(shù)據(jù):
(1)該廢水中一定不含有的離子有________________(填離子符號);
(2)寫出A→B過程中發(fā)生反應的離子方程式:_________________;
(3)該廢水中,c(Al3+)=________________________;
(4)①實驗室配制100mL2mol/L的NaOH溶液時,用到的玻璃儀器除燒杯、玻璃棒、量筒外,還需要________(填儀器名稱)。
②下列操作使所配溶液濃度偏大的是(填寫字母)________。
A.稱量用了生銹的砝碼
B.將NaOH放在紙張上稱量
C.NaOH在燒杯中溶解后,未冷卻就立即轉移到容量瓶中
D.往容量瓶轉移時,有少量液體賤出
E.未洗滌溶解NaOH的燒杯
F.定容時仰視刻度線
G.容量瓶未干燥即用來配制溶液
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【題目】有未知濃度的Ba(OH)2和NaOH混合溶液,量取四份該溶液分別通入等量的CO2(已折算成標準狀況下的體積,不考慮CO2在水中的溶解),生成沉淀的物質的量如下表:
實驗序號 | Ⅰ | Ⅱ | Ⅲ | Ⅳ |
CO2體積(mL) | 2352 | 2352 | 2352 | 2352 |
樣品體積(mL) | 20.0 | 30.0 | 40.0 | 50.0 |
沉淀物質的量(×10-2mol) | 1.50 | 4.50 | 6.00 | 7.50 |
(1)該混合溶液中Ba(OH)2的物質的量濃度=_____________。
(2)實驗Ⅲ最后所得溶液中碳酸鈉的物質的量=___________。
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【題目】常溫下,將Cl2緩慢通入水中至飽和,然后向所得飽和氯水中滴加0.10 mol·L-1的NaOH溶液,整個過程中溶液pH變化的曲線如圖所示。下列敘述中正確的是
A. 點①所示溶液中:c(H+)=c(Cl-)+c(HClO)+c(OH-)
B. 點②所示溶液中:c(H+)>c(Cl-)>c(ClO—)>c(HClO)
C. 點③所示溶液中:c(Na+)=2c(ClO-)+c(HClO)
D. 點④所示溶液中:c(Na+)>c(ClO-)>c(Cl-)>c(HClO)
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【題目】NO2、O2和熔融NaNO3可制作燃料電池,其原理如圖,下列判斷正確的是
A. 石墨電極Ⅱ為電池負極
B. 電池中NO3-從石墨電極I向石墨電極Ⅱ作定向移動
C. 石墨I電極發(fā)生的電極反應為NO2+NO3--e-=N2O5
D. 每消耗1 mol NO2轉移電子2 mol
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【題目】設NA為阿伏加德羅常數(shù)的值,下列說法正確的是
A. 56 g Fe 與1mol Cl2充分反應,轉移的電子數(shù)為3NA
B. 分子數(shù)為 0.1NA的CH4和NH3混合氣體,含有的共用電子對數(shù)為0.4NA
C. 25℃時,1L pH=12的Ba(OH)2溶液中含有0.02NA 的OH-
D. 常溫常壓下,22 g D3O+中含有10NA個電子
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【題目】在某一恒溫、恒容的密閉容器中發(fā)生反應:3H2(g)+N2(g)2NH3(g) ΔH<0。t1時刻反應達到平衡,在t2時刻改變某一條件,其反應過程如圖所示。下列說法正確的是
A. Ⅰ、Ⅱ兩過程達到平衡時,平衡常數(shù):KⅠ<KⅡ
B. Ⅰ、Ⅱ兩過程達到平衡時,NH3的體積分數(shù):Ⅰ<Ⅱ
C. Ⅰ、Ⅱ兩過程達到平衡的標志:氣體的平均密度不再發(fā)生變化
D. t2時刻改變的條件可以是向密閉容器中加H2和N2的混合氣
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【題目】以硅石(主要成分SiO2)為起始原料生產(chǎn)高純多晶硅的簡化工藝流程如下圖所示:
(1)在電弧爐中,生成粗硅的化學方程式為____________,該反應氧化劑與還原劑物質的量之比為_____________。
(2)合成爐中有關反應的數(shù)據(jù)如下表所示:
熱化學方程式 | 平衡常數(shù) | |
主反應 | Si(s)+3HCl(g)SiHCl3(g)+H2(g) △H=-210kJ/mol | K1 |
副反應 | Si(s)+4HCl(g)SiCl4(g)+2H2(g) △H=-241kJ/mol | K2 |
①主反應的溫度需嚴格控制在280~300℃之間,若溫度過低,則__________________;若溫度太高,SiHCl3則會轉化生成SiCl4,該轉化的熱化學方程式為_____________________。
②平衡時,的值a隨著的值b的變化而變化,則=______(用含K1、K2的代數(shù)式表示)。工業(yè)上用H2適當稀釋HCl來提高的值,請用平衡移動原理加以解釋________________________。
(3)還原爐中的主要反應為SiHCl3(g)+H2(g)=Si(s)+3HCl(g) △H>0。實驗室中在1.0L密閉容器中研究得到SiHCl3的轉化率在不同溫度條件下隨n(H2)/(SiHCl3)變化的曲線如圖所示。t1、t2、t3表示的溫度高低順序為_______;t1溫度時平衡常數(shù)Ka=______(保留兩位小數(shù))。
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