“神九”飛船上載有活性炭材料的器材，其作用是(　　)
A．處理宇航員的生活垃圾B．去除呼吸廢氣中的異味
C．提供生活中需要的能量D．改善失重條件下的平衡
B
活性炭具有吸附性，可用于消除廢氣中的異味。
練習(xí)冊(cè)系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目：高中化學(xué) 來(lái)源：不詳 題型：填空題

（15分）（2012?重慶）金剛石、SiC具有優(yōu)良的耐磨、耐腐蝕特性，應(yīng)用廣泛．
（1）碳與短周期元素Q的單質(zhì)化合僅能生成兩種常見(jiàn)氣態(tài)化合物，其中一種化合物R為非極性分子．碳元素在周期表中的位置是             ，Q是             ，R的電子式為             ．
（2）一定條件下，Na還原CCl4可制備金剛石，反應(yīng)結(jié)束冷卻至室溫后，回收其中的CCl4的實(shí)驗(yàn)操作名稱為             ，除去粗產(chǎn)品中少量鈉的試劑為             ．
（3）碳還原SiO2制SiC，其粗產(chǎn)品中雜質(zhì)為Si和SiO2．現(xiàn)將20.0g SiC粗產(chǎn)品加入到過(guò)量的NaOH溶液中充分反應(yīng)，收集到0.1mol氫氣，過(guò)濾得SiC固體11.4g，濾液稀釋到1L．生成氫氣的離子方程式為             ，硅酸鹽的物質(zhì)的量濃度為             ．
（4）下列敘述正確的有             （填序號(hào)）．
①Na還原CCl4的反應(yīng)、Cl2與H2O的反應(yīng)均是置換反應(yīng)
②水晶、干冰熔化時(shí)克服粒子間作用力的類型相同
③Na2SiO3溶液與SO3的反應(yīng)可用于推斷Si與S的非金屬性強(qiáng)弱
④鈉、鋰分別在空氣中燃燒，生成的氧化物中陰陽(yáng)離子數(shù)目比均為1：2．

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科目：高中化學(xué) 來(lái)源：不詳 題型：單選題

下列說(shuō)法中，正確的是（  ）
A．酸性氧化物都不與酸溶液反應(yīng)
B．陶瓷、水泥及所有的玻璃都是硅酸鹽產(chǎn)品
C．某些非金屬單質(zhì)既能與酸反應(yīng)也能與堿反應(yīng)
D．硅酸鹽都是難溶于水的

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科目：高中化學(xué) 來(lái)源：不詳 題型：填空題

獲取知識(shí)和信息是現(xiàn)代人不可缺少的素質(zhì)，信息產(chǎn)業(yè)的飛速發(fā)展離不開材料科學(xué)的推動(dòng)。信息產(chǎn)業(yè)的核心材料是高純度的硅，單晶硅可用來(lái)制作大規(guī)模集成電路、整流器等，硅純度越高，大規(guī)模集成電路的性能就越好。高純度的單晶硅生產(chǎn)方法有：
方法一：三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法，生產(chǎn)過(guò)程示意圖如下：

方法二：用金屬硅化物(Mg2Si)與鹽酸作用制得硅烷，再熱分解硅烷可得高純硅。
根據(jù)上述信息回答以下問(wèn)題：
(1)從方法一生產(chǎn)單晶硅的過(guò)程看，由焦炭還原得到的硅為何還要進(jìn)一步處理？_________________________________________________________。
(2)寫出方法二中生產(chǎn)高純硅的兩個(gè)化學(xué)方程式：
①____________________________________________________________；
②__________________________________________________________。
(3)寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學(xué)方程式：____________________________________。
(4)在方法一中，整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水無(wú)氧。SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì)，寫出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式：________________；H2還原SiHCl3過(guò)程中若混入O2，可能引起的后果是_____________________________________________________。
(5)比較方法一和方法二，分析一下各自的優(yōu)缺點(diǎn)____________________________________。

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科目：高中化學(xué) 來(lái)源：不詳 題型：單選題

化學(xué)家Seidel指出Si與NaOH溶液的反應(yīng)，首先是Si與OH-反應(yīng)，生成SiO44-，然后SiO44-迅速水解生成H4 SiO4，下列有關(guān)說(shuō)法正確的是（ ）。
A．原硅酸鈉（Na4SiO4）能迅速水解，且水解后呈堿性，故Na4SiO4為弱電解質(zhì)
B．石英玻璃、普通玻璃、陶瓷及水泥均屬于硅酸鹽產(chǎn)品
C．2HCl +Na2SiO3 = H2SiO3↓+2NaCl說(shuō)明Cl 的非金屬性大于Si
D．半導(dǎo)體工業(yè)所說(shuō)的“從沙灘到家庭”是指：將二氧化硅制成晶體硅

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科目：高中化學(xué) 來(lái)源：不詳 題型：填空題

硅及其化合物對(duì)人類現(xiàn)代文明具有特殊貢獻(xiàn)，請(qǐng)回答下列有關(guān)問(wèn)題：
(1)硅原子的結(jié)構(gòu)示意圖：________。
(2)下列物品或設(shè)備所用的材料屬于硅酸鹽的是________。
①長(zhǎng)江三峽水泥大壩；②石英光導(dǎo)纖維；③陶瓷坩堝；④普通玻璃；⑤硅太陽(yáng)能電池
A．①②③      B．③④⑤       C．②③④      D．①③④
(3)常溫下，SiCl4為液態(tài)，沸點(diǎn)為57.6℃，在空氣中冒白霧。制備高純度硅的中間產(chǎn)物SiCl4中溶有液態(tài)雜質(zhì)，若要得到高純度SiCl4，應(yīng)采用的方法是________；用化學(xué)方程式及必要文字解釋SiCl4在空氣中冒白霧的原因：_______________________________________。
(4)工業(yè)上可用SiCl4(g)制備高溫結(jié)構(gòu)陶瓷氮化硅，其反應(yīng)方程式為
3SiCl4(g)＋2N2(g)＋6H2(g)Si3N4(s)＋12HCl(g)　ΔH＝a kJ/mol(a＜0)
①該反應(yīng)的平衡常數(shù)表達(dá)式K＝______________.
②在密閉恒容容器中，能表示上述反應(yīng)達(dá)到平衡狀態(tài)的是________。
A．3v逆(N2)＝v正(H2)
B．v正(HCl＝4v正＝4v正(SiCl4)
C．混合氣體密度保持不變
D．c(N2)∶c(H2)∶c(HCl)＝1∶3∶6
③在某條件下達(dá)到平衡時(shí)，H2與HCl物質(zhì)的量之比為m∶n；保持其他條件不變，降低溫度達(dá)到平衡時(shí)，H2與HCl物質(zhì)的量之比________m∶n(填“>”、“＝”或“＜”)。

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科目：高中化學(xué) 來(lái)源：不詳 題型：填空題

CO2是目前大氣中含量最高的一種溫室氣體。因此，控制和治理CO2是解決溫室效應(yīng)的有效途徑。
（1）下列關(guān)于CO2的說(shuō)法正確的是（填序號(hào)）_________。
①減少化石燃料的使用，充分利用太陽(yáng)能、風(fēng)能等清潔能源可有效降低大氣中CO2的含量
②植樹造林，增大植被面積可以有效降低大氣中CO2的含量
③二氧化硫、氮氧化物、二氧化碳、懸浮微粒的含量都是空氣質(zhì)量日?qǐng)?bào)的內(nèi)容
④空氣中CO2的含量過(guò)高會(huì)導(dǎo)致酸雨的形成
（2）下列措施不能減少二氧化碳排放的是（填序號(hào)） _________。
①利用太陽(yáng)能制氫
②關(guān)停小火電企業(yè)
③舉行“地球一小時(shí)”熄燈活動(dòng)
④推廣使用煤液化技術(shù)
（3）下列反應(yīng)不產(chǎn)生溫室氣體的是（填序號(hào)）_________。
①用純堿制玻璃                           ②用煤炭作燃料
③用鐵礦石煉鐵                           ④用氨制碳酸銨
（4）目前，關(guān)于二氧化碳是否為大氣污染物有不同的觀點(diǎn)。認(rèn)為“二氧化碳不是大氣污染物”的理由是（填序號(hào)）_________。
①二氧化碳是重要的化工原料
②二氧化碳是植物光合作用的必備原料
③二氧化碳是無(wú)色、無(wú)味、無(wú)毒的氣體
④除二氧化碳以外，甲烷、一氧化二氮等也是溫室氣體

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科目：高中化學(xué) 來(lái)源：不詳 題型：單選題

下列關(guān)于SiO2和CO2的敘述中正確的是（  ）。
A．兩者都是酸性氧化物，故都不與酸反應(yīng)
B．兩者都可以與NaOH溶液反應(yīng)
C．CO2的熔、沸點(diǎn)比SiO2高
D．兩者都能與水反應(yīng)生成對(duì)應(yīng)的酸

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科目：高中化學(xué) 來(lái)源：不詳 題型：填空題

清洗和制絨是硅晶片制作的重要步驟之一，硅片化學(xué)清洗的主要目的是除去硅片表面雜質(zhì)（如某些有機(jī)物，無(wú)機(jī)鹽，金屬、Si、SiO2粉塵等）。常用的化學(xué)清洗劑有高純水、有機(jī)溶劑、雙氧水、濃酸、強(qiáng)堿等。其中去除硅的氧化物，通常用一定濃度的HF溶液，室溫條件下將硅片浸泡1至數(shù)分鐘。制絨是在硅片表面形成金字塔形的絨面，增加硅對(duì)太陽(yáng)光的吸收。單晶制絨通常用NaOH，Na2SiO3等混合溶液在75～90℃反應(yīng)25～35 min，效果良好。
回答下列問(wèn)題
（1）能否用玻璃試劑瓶來(lái)盛HF溶液，為什么?用化學(xué)方程式加以解釋                          ；
（2）寫出晶片制絨反應(yīng)的離子方程式                                   ，對(duì)單晶制絨1990年化學(xué)家Seidel提出了一種的電化學(xué)模型，他指出Si與NaOH溶液的反應(yīng)，首先是Si與OH一反應(yīng)，生成SiO44一，然后SiO44一迅速水解生成H4SiO4。基于此原理分析反應(yīng)中氧化劑為                    。
（3）本�；瘜W(xué)興趣小組同學(xué)，為驗(yàn)證Seidel的理論是否正確，完成以下實(shí)驗(yàn)：
 
實(shí)驗(yàn)事實(shí)
事實(shí)一
水蒸汽在600℃時(shí)可使粉末狀硅緩慢氧化并放出氫氣。
事實(shí)二
盛放于鉑或石英器皿中的純水長(zhǎng)時(shí)間對(duì)粉末狀還原硅無(wú)腐蝕作用。
事實(shí)三
普通玻璃器皿中的水僅因含有從玻璃中溶出的微量的堿便可使粉末狀硅在其中緩慢溶解。
事實(shí)四
在野外環(huán)境里，用較高百分比的硅鐵粉與干燥的Ca(OH)2和NaOH，點(diǎn)著后燜燒，可劇烈放出H2。
事實(shí)五
1g（0.036mo1）Si和20mL含有l(wèi)gNaOH（0.025mol）的溶液，小心加熱（稍微預(yù)熱），收集到約1700mL H2，很接近理論值（1600mL）。
 
結(jié)論：從實(shí)驗(yàn)上說(shuō)明堿性水溶液條件下，H2O可作                劑；NaOH作              劑，降低反應(yīng)            。高溫?zé)o水環(huán)境下，NaOH作              劑。
（4）在太陽(yáng)能電池表面沉積深藍(lán)色減反膜——氮化硅晶膜。常用硅烷（SiH4）與氨氣（NH3）在等離子體中反應(yīng)。硅烷是一種無(wú)色、有毒氣體，常溫下與空氣和水劇烈反應(yīng)。下列關(guān)于硅烷、氮化硅的敘述不正確的是               。
A．在使用硅烷時(shí)要注意隔離空氣和水，SiH4能與水發(fā)生氧化還原反應(yīng)生成H2；
B．硅烷與氨氣反應(yīng)的化學(xué)方程式為：3SiH4+4NH3＝Si3N4+12H2↑，反應(yīng)中NH3作氧化劑；
C．它們具有卓越的抗氧化、絕緣性能和隔絕性能，化學(xué)穩(wěn)定性很好，不與任何酸、堿反應(yīng)；
D．氮化硅晶體中只存在共價(jià)鍵，Si3N4是優(yōu)良的新型無(wú)機(jī)非金屬材料。

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