Question

硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣。
（1）制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅，工業(yè)上可以按如下步驟制備純硅：
Ⅰ.高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅
Ⅱ.粗硅與干燥的氯氣在450 ℃～500 ℃ 反應(yīng)制得SiCl₄
Ⅲ.  SiCl₄液體經(jīng)精餾提純后與過(guò)量H₂在1100 ℃～1200 ℃ 反應(yīng)制得純硅
已知SiCl₄沸點(diǎn)為57.6 ℃，能與H₂O強(qiáng)烈反應(yīng)。1 mol H₂與SiCl₄氣體完全反應(yīng)吸收的熱量為120.2 kJ。請(qǐng)回答下列問(wèn)題：
① 第Ⅰ步制備粗硅的化學(xué)反應(yīng)方程式為                                       ，第Ⅲ步反應(yīng)的熱化學(xué)方程式是                                                   。
②整個(gè)制備純硅過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水無(wú)氧。SiCl₄在潮濕的空氣中因水解而產(chǎn)生白色煙霧，其生成物是          ；H₂還原SiCl₄過(guò)程中若混O₂，可能引起的后果是        。
（2）二氧化硅大量用于生產(chǎn)玻璃。工業(yè)上用SiO₂、Na₂CO₃和CaCO₃共283 kg在高溫下完全反應(yīng)時(shí)放出CO₂ 44 kg，生產(chǎn)出的玻璃可用化學(xué)式Na₂SiO₃·CaSiO₃·xSiO₂表示，則其中x＝         。

Answer 1

（1）① SiO₂＋2CSi＋2CO↑
2H₂(g)＋SiCl₄(g)=== Si(s)＋4HCl(g)；ΔH＝+240.4 kJ·mol^-1
② H₂SiO₃（或H₄SiO₄）和HCl   爆炸  
（2）4

略