Question

硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣,請(qǐng)回答下列問題：

（1）       制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷（SiHCl₃）還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法，生產(chǎn)過程示意圖如下：

	焦炭		HCl		提純

 

石英砂

SiHCl3(精)

SiHCl3(粗)

573K以上

粗硅

高溫

     

 

①寫出由純SiHCl₃制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式　                 　。

②整個(gè)制備過程必須嚴(yán)格控制無水、無氧。SiHCl₃遇水劇烈反應(yīng)生成H₂SiO₃、HCl和另一種物質(zhì)，寫出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式　　　                　         ；H₂還原SiHCl₃過程中若混0₂，可能引起的后果是                                      。

（2）下列有關(guān)說法正確的是           （填字母）。

A.碳化硅化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，可用于生產(chǎn)耐高溫水泥

B.氮化硅硬度大、熔點(diǎn)高，可用于制作高溫陶瓷和軸承

C.普通玻璃的成分有純堿、石灰石和石英砂，其熔點(diǎn)很高

D.鹽酸可以與硅反應(yīng)，故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅

(3)取少量硅酸鈉溶液于試管中，逐滴加入鹽酸溶液，振蕩,則反應(yīng)的離子方程式是　 　                                                           。

Answer 1

 (1)①　SiHCl₃  + H₂ ===  Si + 3HCl

②SiHCl₃+3H₂O===H₂SiO₃+H₂↑+3HCl；H₂遇O₂可能發(fā)生爆炸              

(2)   AB ；  （3）  SiO₃^2- + 2 H⁺  ===  H₂SiO₃↓　。