(16分)氨氣是一種重要的基礎(chǔ)化工原料,用途廣泛。
(1)在微電子工業(yè)中,氨水可作刻蝕劑H2O2 的清除劑,產(chǎn)物不污染環(huán)境。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為2NH3 + 3H2O2= +6H2O
(2)工業(yè)中常用以下反應(yīng)合成氨:N2+3H22NH3 △H<0。某實驗室在三個不同條件的密閉容器中,分別加入N2和H2,濃度均為c(N2) = 0.100mol/L, c(H2)= 0.300mol/L,進行反應(yīng)時, N2的濃度隨時間的變化如圖①、②、③曲線所示。
該反應(yīng)平衡常數(shù)的數(shù)學(xué)表達式為 ;實驗②平衡時H2的轉(zhuǎn)化率為_____ 。
(3)據(jù)圖所示,②、③兩裝置中各有一個條件與①不同。請指出,并說明判斷的理由。
②條件:_______ 理由: ________
③條件:_______ 理由: ________
科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
(16分)氨氣是一種重要的基礎(chǔ)化工原料,用途廣泛。
在微電子工業(yè)中,氨水可作刻蝕劑H2O2 的清除劑,產(chǎn)物不污染環(huán)境。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為2NH3+3H2O2= +6H2O
工業(yè)中常用以下反應(yīng)合成氨:N2+3H22NH3 △H<0。某實驗室在三個不同條件的密閉容器中,分別加入濃度均為C(N2)=0.100mol/L,C(H2)=0.300mol/L進行反應(yīng)時, N2的濃度隨時間的變化如下圖①、②、③曲線所示。
(1)該反應(yīng)平衡常數(shù)的數(shù)學(xué)表達式 ;實驗②平衡時H2的轉(zhuǎn)化率為_______
(2)據(jù)圖所示,②、③兩裝置中各有一個條件與①不同。請指出,并說明判斷的理由。
②條件:_______ 理由: ________
③條件:_______ 理由: ________
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科目:高中化學(xué) 來源:2011屆廣東省揭陽一中高三學(xué)年會考(理綜)化學(xué)部分 題型:填空題
(16分)氨氣是一種重要的基礎(chǔ)化工原料,用途廣泛。
(1)在微電子工業(yè)中,氨水可作刻蝕劑H2O2的清除劑,產(chǎn)物不污染環(huán)境。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為2NH3 + 3H2O2= +6H2O
(2)工業(yè)中常用以下反應(yīng)合成氨:N2+3H22NH3 △H<0。某實驗室在三個不同條件的密閉容器中,分別加入N2和H2,濃度均為c(N2) =" 0.100mol/L," c(H2) = 0.300mol/L,進行反應(yīng)時, N2的濃度隨時間的變化如圖①、②、③曲線所示。
該反應(yīng)平衡常數(shù)的數(shù)學(xué)表達式為 ;實驗②平衡時H2的轉(zhuǎn)化率為_____ 。
(3)據(jù)圖所示,②、③兩裝置中各有一個條件與①不同。請指出,并說明判斷的理由。
②條件:_______ 理由: ________
③條件:_______ 理由: ________
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科目:高中化學(xué) 來源:2010-2011學(xué)年廣東省高三學(xué)年會考(理綜)化學(xué)部分 題型:填空題
(16分)氨氣是一種重要的基礎(chǔ)化工原料,用途廣泛。
(1)在微電子工業(yè)中,氨水可作刻蝕劑H2O2 的清除劑,產(chǎn)物不污染環(huán)境。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為2NH3 + 3H2O2= +6H2O
(2)工業(yè)中常用以下反應(yīng)合成氨:N2+3H22NH3 △H<0。某實驗室在三個不同條件的密閉容器中,分別加入N2和H2,濃度均為c(N2) = 0.100mol/L, c(H2) = 0.300mol/L,進行反應(yīng)時, N2的濃度隨時間的變化如圖①、②、③曲線所示。
該反應(yīng)平衡常數(shù)的數(shù)學(xué)表達式為 ;實驗②平衡時H2的轉(zhuǎn)化率為_____ 。
(3)據(jù)圖所示,②、③兩裝置中各有一個條件與①不同。請指出,并說明判斷的理由。
②條件:_______ 理由: ________
③條件:_______ 理由: ________
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科目:高中化學(xué) 來源:2010-2011學(xué)年廣東省中山市高三化學(xué)模擬試卷(九) 題型:填空題
(16分)氨氣是一種重要的基礎(chǔ)化工原料,用途廣泛。
在微電子工業(yè)中,氨水可作刻蝕劑H2O2 的清除劑,產(chǎn)物不污染環(huán)境。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為2NH3+3H2O2= +6H2O
工業(yè)中常用以下反應(yīng)合成氨:N2+3H22NH3 △H<0。某實驗室在三個不同條件的密閉容器中,分別加入濃度均為C(N2)=0.100mol/L, C(H2)=0.300mol/L進行反應(yīng)時, N2的濃度隨時間的變化如下圖①、②、③曲線所示。
(1)該反應(yīng)平衡常數(shù)的數(shù)學(xué)表達式 ;實驗②平衡時H2的轉(zhuǎn)化率為_______
(2)據(jù)圖所示,②、③兩裝置中各有一個條件與①不同。請指出,并說明判斷的理由。
②條件:_______ 理由: ________
③條件:_______ 理由: ________
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