下列變化中，既屬于吸熱反應(yīng)，又屬于氧化還原反應(yīng)的是（ ）

A．碳酸鈣受熱分解 B．灼熱的木炭與二氧化碳反應(yīng)

C．鋁粉與鹽酸的反應(yīng) D．硝酸銨溶于水

練習(xí)冊(cè)系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目：高中化學(xué) 來源：2016年全國(guó)普通高等學(xué)校招生統(tǒng)一考試化學(xué)（上海卷精編版） 題型：選擇題

實(shí)驗(yàn)室提純含少量氯化鈉雜質(zhì)的硝酸鉀的過程如圖所示。

下列分析正確的是

A．操作Ⅰ是過濾，將固體分離除去

B．操作Ⅱ是加熱濃縮，趁熱過濾，除去雜質(zhì)氯化鈉

C．操作Ⅲ是過濾、洗滌，將硝酸鉀晶體從溶液中分離出來

D．操作Ⅰ~Ⅲ總共需兩次過濾

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科目：高中化學(xué) 來源：2016年全國(guó)普通高等學(xué)校招生統(tǒng)一考試化學(xué)（江蘇卷精編版） 題型：選擇題

通過以下反應(yīng)均可獲取H2。下列有關(guān)說法正確的是

①太陽光催化分解水制氫：2H2O(l) ===2H2（g）+ O2（g） ΔH1=571.6kJ·mol–1

②焦炭與水反應(yīng)制氫：C（s）+ H2O(g) ===CO（g）+ H2（g） ΔH2=131.3kJ·mol–1

③甲烷與水反應(yīng)制氫：CH4（g）+ H2O(g) ===CO（g）+3H2（g） ΔH3=206.1kJ·mol–1

A．反應(yīng)①中電能轉(zhuǎn)化為化學(xué)能

B．反應(yīng)②為放熱反應(yīng)

C．反應(yīng)③使用催化劑，ΔH3減小

D．反應(yīng)CH4（g）===C（s）+2H2（g）的ΔH=74.8 kJ·mol–1

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科目：高中化學(xué) 來源：2015-2016學(xué)年寧夏高一下期末化學(xué)試卷（解析版） 題型：選擇題

下列反應(yīng)屬于加成反應(yīng)的是 （ ）

A． 2CH3CH2OH ＋ 2Na → 2CH3CH2ONa ＋ H2↑

B．

C．

D．

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科目：高中化學(xué) 來源：2015-2016學(xué)年寧夏高一下期末化學(xué)試卷（解析版） 題型：選擇題

下列有關(guān)物質(zhì)的性質(zhì)與應(yīng)用的說法中，均正確的是 （ ）

A．石英能導(dǎo)電，所以用作光導(dǎo)纖維

B．明礬與水反應(yīng)生成氫氧化鋁膠體，可用于自來水消毒

C．氧化鋁熔點(diǎn)高，常用于耐高溫材料

D．蘇打溶液呈弱堿性，可用作胃酸中和劑

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科目：高中化學(xué) 來源：2015-2016學(xué)年寧夏高一下期末化學(xué)試卷（解析版） 題型：選擇題

下列物質(zhì)分離方法不正確的是 ( ）

A．用過濾的方法除去食鹽水中的泥沙

B．用蒸餾的方法將自來水制成蒸餾水

C．用酒精萃取碘水中的碘

D．用分液的方法分離汽油和氯化鈉溶液

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科目：高中化學(xué) 來源：2015-2016學(xué)年寧夏高二下期末化學(xué)試卷（解析版） 題型：填空題

分子式為C2H4O2的結(jié)構(gòu)可能有兩種，。

（1）若為，則紅外光譜中應(yīng)該有_____個(gè)振動(dòng)吸收；核磁共振氫譜中應(yīng)有______個(gè)峰。

（2）若為，則紅外光譜中有_______個(gè)振動(dòng)吸收；核磁共振氫譜中應(yīng)有_____個(gè)峰。

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科目：高中化學(xué) 來源：2015-2016學(xué)年寧夏高二下期末化學(xué)試卷（解析版） 題型：選擇題

由2-氯丙烷制取1，2-丙二醇時(shí)，需要經(jīng)過下列哪幾步反應(yīng)（ ）

A．加成→消去→取代 B．消去→加成→取代

C．取代→消去→加成 D．取代→加成→消去

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科目：高中化學(xué) 來源：2015-2016學(xué)年河北省高一下7.3周考化學(xué)試卷（解析版） 題型：實(shí)驗(yàn)題

晶體硅是一種重要的非金屬材料，制備純硅的主要步驟如下：

①高溫下用過量的碳還原二氧化硅制得粗硅，同時(shí)得到一種可燃性氣體；

② 粗硅與干燥的HCl氣體反應(yīng)制得SiCl3（Si+ 3HClSiCl3 + H2）

③ SiHC13與過量的H2在1100～1200℃的溫度下反應(yīng)制得純硅，已知SiHCi3。能與水劇烈反應(yīng)，在空氣中易自燃。

請(qǐng)回答：

（1）第一步制取粗硅的化學(xué)反應(yīng)方程式為_________。

（2）粗硅與HCl氣體反應(yīng)完全后，經(jīng)冷凝得到的SiHCl3（沸點(diǎn)33.0℃ ）中含有少量SiC14 （沸點(diǎn)57.6℃）和HCl（沸點(diǎn)-84.7℃），提純SiHC13采用的方法為________。

（3）實(shí)驗(yàn)室用SiHCl3 與過量的H2反應(yīng)制取純硅裝置如圖所示（加熱和夾持裝置略去）：

①裝置B中的試劑是___________，裝置C中的燒杯需要加熱，目的是___________。

②反應(yīng)一段時(shí)間后，裝置D中觀察到的現(xiàn)象是___________，裝置D不能采用普通玻璃管的原因是___________，裝置D中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式是___________。

③為保證制備純硅實(shí)驗(yàn)的成功，操作的關(guān)鍵是檢查實(shí)驗(yàn)裝置的氣密性，控制好反應(yīng)溫度以及___________。

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