三氟化氮(NF3)在微電子工業(yè)中有重要用途,可由氨氣和氟氣反應(yīng)得到,它在潮濕的空氣中與水蒸氣反應(yīng)的產(chǎn)物有HF、NO和HNO3。下列說(shuō)法錯(cuò)誤的是
A.原子半徑:N>F
B.在與水蒸氣反應(yīng)中,NF3既是氧化劑又是還原劑
C.若NF3泄漏,可用石灰水溶液噴淋的方法減少污染
D.在潮濕空氣中反應(yīng),被氧化與被還原的元素的物質(zhì)的量之比為2:1
D

試題分析:A、同周期元素原子半徑隨原子序數(shù)的增大而減小,所以原子半徑:N>F,正確;B、三氟化氮與水蒸氣反應(yīng)生成HF、NO和HNO3,根據(jù)化合價(jià)變化,三氟化氮中氮元素為+3價(jià),部分N元素化合價(jià)升高轉(zhuǎn)化為HNO3,部分N元素化合價(jià)降低轉(zhuǎn)化為NO,所以NF3既是氧化劑又是還原劑,正確;C、石灰水可除去HF、HNO3,所以若NF3泄漏,可用石灰水溶液噴淋的方法減少污染,正確;D、NF3轉(zhuǎn)化為HNO3,N元素化合價(jià)升高2價(jià),NF3轉(zhuǎn)化為NO,N元素化合價(jià)降低2價(jià),根據(jù)化合價(jià)升高總價(jià)數(shù)和降低總價(jià)數(shù)相等,可得被氧化與被還原的元素的物質(zhì)的量之比為1:1,錯(cuò)誤。
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相關(guān)習(xí)題

科目:高中化學(xué) 來(lái)源:不詳 題型:單選題

下列過(guò)程中不涉及氧化還原反應(yīng)的是(     )
A.用SO2漂白紙漿和草帽辮
B.用氯化鐵溶液腐蝕印刷線路板上的銅膜
C.用犧牲陽(yáng)極的陰極保護(hù)法防止金屬被腐蝕
D.高溫下用焦炭還原SiO2制取粗硅

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源:不詳 題型:單選題

某硝酸銨樣品中混有另一種氮肥,經(jīng)測(cè)定該樣品中含氮38%,則該樣品中可能混有的氮肥是(  )。
A.NH4HCO3B.(NH4)2SO4C.NH4Cl D.CO(NH2)2

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源:不詳 題型:單選題

下列化學(xué)用語(yǔ)中表述正確的是(  )
A.甲醛的電子式:
B.二氧化硅的分子式SiO2
C.丙烷的分子球棍模型示意圖:
D.離子結(jié)構(gòu)示意圖:

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源:不詳 題型:填空題

(1)向NaBr和KI的混合溶液中,通入足量的Cl2后,將溶液蒸干并灼燒,最后蒸發(fā)皿中剩余的物質(zhì)是________,寫(xiě)出反應(yīng)的化學(xué)方程式:________________________________。
(2)向KI溶液中滴入淀粉溶液,現(xiàn)象是____________________,再滴入氯水,現(xiàn)象是________,有關(guān)反應(yīng)的離子方程式為_(kāi)_____________________。

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源:不詳 題型:單選題

下列反應(yīng)中,氧化劑與還原劑的物質(zhì)的量之比為1:2的是
①O3+2KI+H2O=2KOH+I(xiàn)2+O2、赟iO2+2CSi+2CO↑
③SiO2+3CSiC+2CO↑  ④4HCl(濃)+MnO2MnCl2+Cl2↑+2H2O(  )
A.僅有②B.②④C.②③④D.①②③④

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源:不詳 題型:單選題

室溫時(shí),在體枳相同的容器內(nèi)混合下列氣體;旌虾髩簭(qiáng)最小的是 (   )
A.100mL H2和50mL O2B.100mL N2和200mL O2
C.100mL NO和100mL O2D.100mL HCl和100mL NH3

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源:不詳 題型:單選題

向100 mL 18 mol/L的硫酸中加入足量銅片,加熱并充分反應(yīng)。下列有關(guān)說(shuō)法正確的是(  )
A.充分反應(yīng)后轉(zhuǎn)移1.8 mol電子
B.H2SO4只作氧化劑
C.若不加熱應(yīng)生成H2
D.消耗的銅的質(zhì)量一定少于57.6 g

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源:不詳 題型:單選題

在下列各氧化還原反應(yīng)中,水既不作氧化劑,也不作還原劑的是
A.2F2+2H2O=4HF+O2B.C+H2OCO+H2
C.2Na+2H2O=2NaOH+H2D.3NO2+H2O=2HNO3+NO

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