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下列有關(guān)化學(xué)反應(yīng)原理的應(yīng)用敘述中,正確的是( �。�
A、用明礬凈水是因?yàn)锳l3+水解生成的Al(OH)3膠粒具有很強(qiáng)的吸附性
B、電解法精煉銅時(shí),以粗銅作陰極,純銅作陽(yáng)極
C、鋼鐵因含雜質(zhì)而容易發(fā)生電化學(xué)腐蝕,所以合金都不耐腐蝕
D、工業(yè)合成氨使用催化劑是為了加快反應(yīng)速率和提高氨的產(chǎn)量
考點(diǎn):鹽類(lèi)水解的應(yīng)用,金屬的電化學(xué)腐蝕與防護(hù),化學(xué)平衡的影響因素,電解原理
專(zhuān)題:基本概念與基本理論,化學(xué)應(yīng)用
分析:A.膠體具有吸附性,能吸附懸浮物;
B.電解精煉粗銅時(shí),粗銅作陽(yáng)極、純銅作陰極;
C.作原電池正極的金屬被保護(hù),合金不一定不耐腐蝕;
D.催化劑只改變反應(yīng)速率,不影響平衡移動(dòng).
解答: 解:A.明礬中鋁離子水解生成氫氧化鋁膠體,膠體具有吸附性,能吸附懸浮物而凈水,故A正確;
B.電解精煉粗銅時(shí),粗銅作陽(yáng)極、純銅作陰極,陽(yáng)極上銅失電子發(fā)生氧化反應(yīng),陰極上銅離子得電子發(fā)生還原反應(yīng),故B錯(cuò)誤;
C.不銹鋼、鍍鋅鐵等中的Fe均不易腐蝕,故C錯(cuò)誤;
D.催化劑只改變反應(yīng)速率,不影響平衡移動(dòng),所以工業(yè)合成氨使用催化劑是為了加快反應(yīng)速率,但不能提高氨的產(chǎn)量,故D錯(cuò)誤;
故選A.
點(diǎn)評(píng):本題考查了鹽類(lèi)水解、電解精煉、金屬的腐蝕與符合、化學(xué)反應(yīng)速率和化學(xué)平衡影響因素等知識(shí)點(diǎn),根據(jù)膠體的性質(zhì)、電解原理、原電池原理、催化劑的特點(diǎn)等知識(shí)點(diǎn)來(lái)分析移動(dòng),易錯(cuò)選項(xiàng)是D,注意催化劑能同等程度的改變正逆反應(yīng)速率,所以不影響平衡移動(dòng),為易錯(cuò)點(diǎn).
練習(xí)冊(cè)系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:

下列試劑的保存方法不正確的是( �。�
A、金屬鈉通常保存在石蠟油或煤油中
B、新制氯水通常保存在棕色試劑瓶中
C、氫氧化鈉溶液通常保存在帶有橡皮塞的玻璃瓶中
D、氫氟酸通常保存在玻璃瓶中

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:

常溫下,下列各組離子在指定溶液中能大量共存的是( �。�
A、飽和氯水中:Cl-、NO3-、Na+、CO32-
B、酸性溶液:Al3+、K+、SO42-、Br-
C、酚酞呈紅色的溶液中:SO42-、K+、Cl-、H2PO4-
D、石蕊呈紅色的溶液中:Fe3+、I-、Na+、SCN-

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:

實(shí)驗(yàn)是研究化學(xué)的基礎(chǔ),如圖中的實(shí)驗(yàn)方法、裝置或操作完全正確的是( �。�
A、
除去Cl2中HCl
B、
稀釋濃H2SO4
C、
  制取氫氣
D、
   稱(chēng)取NaOH
闂傚倸鍊搁崐鎼佸磹閹间礁纾归柟闂寸绾惧綊鏌熼梻瀵割槮缁炬儳缍婇弻锝夊箣閿濆憛鎾绘煕閵堝懎顏柡灞剧洴楠炴﹢鎳犻澶嬓滈梻浣规偠閸斿秶鎹㈤崘顔嘉﹂柛鏇ㄥ灠閸愨偓濡炪倖鍔﹀鈧紒顔煎缁辨挻鎷呴幓鎺嶅濠电姰鍨煎▔娑㈩敄閸曨厽宕查柛鈩冪⊕閻撳繘鏌涢锝囩畺闁革絾妞介弻娑㈡晲閸涱喛纭€缂備浇椴哥敮锟犲箖閳哄懏顥堟繛鎴炲笚閻庝即姊绘担鍛婃儓闁活剙銈稿畷浼村冀椤撶姴绁﹂梺纭呮彧缁犳垹绮诲☉銏♀拻闁割偆鍠撻埊鏇熴亜閺傚灝顏慨濠勭帛閹峰懘宕ㄦ繝鍌涙畼濠电儑绲藉ú锕€顪冩禒瀣櫜闁绘劖娼欑欢鐐烘煙闁箑鍔﹂柨鏇炲€归悡鏇㈡煛閸ャ儱濡奸柣蹇曞У娣囧﹪顢曢敐蹇氣偓鍧楁煛鐏炲墽娲撮柍銉畵楠炲鈹戦崶鈺€澹曠紓鍌氬€风粈渚€顢栭崨顖涘床闁圭増婢橀悡姗€鏌熸潏楣冩闁稿﹦鍏橀弻銈囧枈閸楃偛顫梺鍛婃煥閹诧紕鎹㈠☉姘e亾濞戞瑡缂氶柣顓滃€曢湁婵犲﹤绨肩花缁樸亜閺囶亞绋荤紒缁樼箓椤繈顢橀悢鍓蹭户闂傚倷鑳剁划顖涚仚闁诲繐绻戦悷鈺佺暦閹扮増鍊烽柣鎴炃氶幏娲煟鎼粹剝璐″┑顔炬暬婵℃挳宕橀埡鈧换鍡涙煟閹邦厽缍戞繛鎼枟椤ㄣ儵鎮欏顔煎壉濡炪倧濡囨晶妤呭箚閺冨牊鏅查柛銉╊棑鎼村﹪姊婚崒娆掑厡缂侇噮鍨跺畷婵嬫晝閸屾氨顦┑鐐叉閹稿摜绮堟径鎰厪闁割偅绻冮ˉ鎾趁瑰⿰鍕煁闁靛洤瀚伴獮妯兼崉閻╂帇鍨介弻娑樜熼搹瑙勬喖濡炪們鍔婇崕鐢稿箖濞嗘挸绠甸柟鐑樻尰椤斿嫰姊洪崜褏甯涢柣妤冨█瀵鈽夊Ο閿嬵潔闂佸憡顨堥崑鐐烘倶閸喓绠鹃悗鐢登归宀勬煕濞嗗繐鏆欐い顐㈢箻閹煎綊宕烽鐙呯床婵犳鍠楅〃鍛涘▎鎾村仼闁割偅娲橀埛鎴犵磽娴g櫢渚涙繛鍫熸閺屻劑寮撮妸銈夊仐闂佺粯渚楅崰娑氱不濞戞ǚ妲堟繛鍡樺灥婵悂鏌f惔锛勭暛闁稿骸宕灋鐎光偓閸曨偆顔嗗┑鐐叉▕娴滄繈鍩涢幋锔界厱婵炴垶锕崝鐔虹磼閻樿櫕宕岄柟顔筋殔椤繈鎮℃惔锛勭潉闂備浇妗ㄧ粈浣虹矓閻熼偊鍤曟い鏇楀亾鐎规洘甯掗オ浼村椽閸愵亜绨ラ梻鍌氬€风粈渚€骞栭銈嗗仏妞ゆ劧绠戠壕鍧楁煙閹澘袚闁稿鏅滅换娑橆啅椤旇崵鍑归梺缁樻尰缁嬫垿婀侀梺鎸庣箓閹冲繘骞夐幖浣告瀬闁割偅鎯婇弮鍫熷亹闂傚牊绋愮划璺衡攽閻愬弶鈻曢柛娆忓暣婵″瓨绗熼埀顒€顕f禒瀣垫晣闁绘劙娼ч獮鎰版⒒娴e憡鍟為柛鏃€鍨垮畷婵嗩吋婢跺鈧爼鏌涢鐘插姕闁稿﹦鏁婚幃宄扳枎韫囨搩浠剧紓浣插亾闁告劏鏂傛禍婊堟煏婵炲灝鍔甸棅顒夊墯椤ㄣ儵鎮欑拠褑鍚悗娈垮枙缁瑩銆佸鈧幃娆撴濞戞ḿ顔囬梻鍌氬€风粈渚€骞夐敓鐘茬闁硅揪绠戠粈澶愬箹濞n剙濡肩痪鎯х秺閺屻劑鎮ら崒娑橆伓

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:

NA為阿伏加德羅常數(shù),下列說(shuō)法中正確的是( �。�
A、標(biāo)準(zhǔn)狀況下,22.4L CCl4含有NA個(gè)CCl4分子
B、1mol/L Mg(NO32溶液中含有NO3-的數(shù)目為2NA
C、等物質(zhì)的量濃度的鹽酸和硫酸中,H+的物質(zhì)的量濃度也相等
D、5.6g鐵與足量鹽酸反應(yīng)轉(zhuǎn)移的電子數(shù)為0.2NA

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:

下列各離子在所給條件能夠大量共存的是( �。�
A、中性溶液中:Al3+、NH4+、SO42-、HCO3-
B、pH=0的溶液中,Mg2+、Fe3+、NO3-、SO42-
C、無(wú)色溶液中,Al3+、K+、SO42-、MnO4-
D、含有大量Fe3+的溶液:Na+、Mg2+、NO3-、SCN-

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:

在氧化還原反應(yīng)3S+6KOH=K2SO3+2K2S+3H2O中,氧化劑和還原劑的物質(zhì)的量之比為( �。�
A、1:2B、2:1
C、1:1D、3:2

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:

某主族元素A的外圍電子排布式為ns1,另一主族元素B的外圍電子排布為ns2np4,兩者形成的離子化合物的化學(xué)式可能為(  )
A、AB
B、A2B
C、AB2
D、A2B3

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:

有機(jī)物A、B、C均由C、H、O三種元素組成.A中氧的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為23.53%,氫的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為5.88%,A的相對(duì)分子質(zhì)量為最簡(jiǎn)式式量的2倍,且A的結(jié)構(gòu)中有苯環(huán).在稀硫酸中加熱A,可生成B和C,B能與碳酸氫鈉反應(yīng),而C不能.
試求:
(1)A的分子式;
(2)A、B、C可能的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)式.

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同步練習(xí)冊(cè)答案
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