(16分) 圖Ⅰ是實(shí)驗(yàn)室中常用于制備和干燥氣體的裝置:
(1) 甲同學(xué)用圖Ⅰ裝置、銅和濃硝酸制備并收集干燥的NO2氣體:
① B中反應(yīng)的化學(xué)方程式_____________________________。
② 收集NO2氣體的方法 ;
③ 將收集滿NO2的燒瓶密封浸入冰水中,燒瓶?jī)?nèi)氣體顏色變淺, 則下列反應(yīng):
2NO2 (g) N2O4(g) ΔH 中的ΔH 0(填“>”或“<”)
(2) 乙同學(xué)用圖Ⅰ裝置制取NH3和O2的混合氣體,用圖Ⅱ裝置驗(yàn)證氨的某些性質(zhì):
往A中加入濃氨水,B中加入Na2O2固體,C中加入堿石灰,D內(nèi)放置催化劑(鉑石棉),按氣流方向a→ b→c→ h連接各儀器 :
① 實(shí)驗(yàn)中觀察到D內(nèi)有紅棕色氣體出現(xiàn),證明氨氣具有____(填“氧化性”或“還原性”)。
② D中反應(yīng)的化學(xué)方程式為________________ _____、 .
③ 為防止NO2 污染環(huán)境,E裝置中裝的試劑可以是 。
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
(16分) 圖Ⅰ是實(shí)驗(yàn)室中常用于制備和干燥氣體的裝置:
(1) 甲同學(xué)用圖Ⅰ裝置、銅和濃硝酸制備并收集干燥的NO2氣體:
① B中反應(yīng)的化學(xué)方程式_____________________________。
② 收集NO2氣體的方法 ;
③ 將收集滿NO2的燒瓶密封浸入冰水中,燒瓶?jī)?nèi)氣體顏色變淺, 則下列反應(yīng):
2NO2(g) N2O4(g) ΔH 中的ΔH 0(填“>”或“<”)
(2) 乙同學(xué)用圖Ⅰ裝置制取NH3和O2的混合氣體,用圖Ⅱ裝置驗(yàn)證氨的某些性質(zhì):
往A中加入濃氨水,B中加入Na2O2固體,C中加入堿石灰,D內(nèi)放置催化劑(鉑石棉),按氣流方向a→ b→c→ h連接各儀器 :
① 實(shí)驗(yàn)中觀察到D內(nèi)有紅棕色氣體出現(xiàn),證明氨氣具有____(填“氧化性”或“還原性”)。
② D中反應(yīng)的化學(xué)方程式為________________ _____、 .
③ 為防止NO2 污染環(huán)境,E裝置中裝的試劑可以是 。
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源:2011—2012學(xué)年廣東省羅定中學(xué)高三理綜周測(cè)化學(xué)試卷 題型:實(shí)驗(yàn)題
(16分) 圖Ⅰ是實(shí)驗(yàn)室中常用于制備和干燥氣體的裝置:
(1) 甲同學(xué)用圖Ⅰ裝置、銅和濃硝酸制備并收集干燥的NO2氣體:
① B中反應(yīng)的化學(xué)方程式_____________________________。
② 收集NO2氣體的方法 ;
③ 將收集滿NO2的燒瓶密封浸入冰水中,燒瓶?jī)?nèi)氣體顏色變淺,則下列反應(yīng):
2NO2 (g)N2O4(g) ΔH 中的ΔH 0(填“>”或“<”)
(2) 乙同學(xué)用圖Ⅰ裝置制取NH3和O2的混合氣體,用圖Ⅱ裝置驗(yàn)證氨的某些性質(zhì):
往A中加入濃氨水,B中加入Na2O2固體,C中加入堿石灰,D內(nèi)放置催化劑(鉑石棉),按氣流方向a→ b→c→ h連接各儀器 :
① 實(shí)驗(yàn)中觀察到D內(nèi)有紅棕色氣體出現(xiàn),證明氨氣具有____(填“氧化性”或“還原性”)。
② D中反應(yīng)的化學(xué)方程式為________________ _____、 .
③為防止NO2 污染環(huán)境,E裝置中裝的試劑可以是 。
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源:2010-2011學(xué)年廣東省高三學(xué)年會(huì)考(理綜)化學(xué)部分 題型:填空題
(16分)氨氣是一種重要的基礎(chǔ)化工原料,用途廣泛。
(1)在微電子工業(yè)中,氨水可作刻蝕劑H2O2 的清除劑,產(chǎn)物不污染環(huán)境。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為2NH3 + 3H2O2= +6H2O
(2)工業(yè)中常用以下反應(yīng)合成氨:N2+3H22NH3 △H<0。某實(shí)驗(yàn)室在三個(gè)不同條件的密閉容器中,分別加入N2和H2,濃度均為c(N2) = 0.100mol/L, c(H2) = 0.300mol/L,進(jìn)行反應(yīng)時(shí), N2的濃度隨時(shí)間的變化如圖①、②、③曲線所示。
該反應(yīng)平衡常數(shù)的數(shù)學(xué)表達(dá)式為 ;實(shí)驗(yàn)②平衡時(shí)H2的轉(zhuǎn)化率為_____ 。
(3)據(jù)圖所示,②、③兩裝置中各有一個(gè)條件與①不同。請(qǐng)指出,并說(shuō)明判斷的理由。
②條件:_______ 理由: ________
③條件:_______ 理由: ________
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源:2010-2011學(xué)年廣東省中山市高三化學(xué)模擬試卷(九) 題型:填空題
(16分)氨氣是一種重要的基礎(chǔ)化工原料,用途廣泛。
在微電子工業(yè)中,氨水可作刻蝕劑H2O2 的清除劑,產(chǎn)物不污染環(huán)境。該反應(yīng)的化學(xué)方程式為2NH3+3H2O2= +6H2O
工業(yè)中常用以下反應(yīng)合成氨:N2+3H22NH3 △H<0。某實(shí)驗(yàn)室在三個(gè)不同條件的密閉容器中,分別加入濃度均為C(N2)=0.100mol/L, C(H2)=0.300mol/L進(jìn)行反應(yīng)時(shí), N2的濃度隨時(shí)間的變化如下圖①、②、③曲線所示。
(1)該反應(yīng)平衡常數(shù)的數(shù)學(xué)表達(dá)式 ;實(shí)驗(yàn)②平衡時(shí)H2的轉(zhuǎn)化率為_______
(2)據(jù)圖所示,②、③兩裝置中各有一個(gè)條件與①不同。請(qǐng)指出,并說(shuō)明判斷的理由。
②條件:_______ 理由: ________
③條件:_______ 理由: ________
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