【題目】下列解釋事實的方程式不正確的是

A. Na2S處理含Hg2+廢水:Hg2+ + S2 = HgS↓

B. 燃煤中添加生石灰減少SO2的排放:2CaO + O2 + 2SO2 2CaSO4

C. 工業(yè)上將Cl2 通入石灰乳中制漂白粉:Cl2 + OH = Cl+ ClO + H2O

D. 向漂白液中加入適量潔廁靈(含鹽酸),產生氯氣:ClO+ Cl+2H = Cl2↑+ H2O

【答案】C

【解析】A、Na2S處理含Hg2+廢水,為沉淀法,離子方程式為:Hg2+ + S2 = HgS↓,故A正確;B、燃煤中添加生石灰減少SO2的排放,發(fā)生氧化還原反應,方程式為:2CaO + O2 + 2SO2 2CaSO4,故B正確;C. 工業(yè)上將Cl2 通入石灰乳中制漂白粉,石灰乳沒有全部電離,離子方程式為:Cl2 +Ca(OH)2 = Cl+ ClO + H2O,故C錯誤;D、向漂白液中加入適量潔廁靈(含鹽酸),在酸性條件下,次氯酸根將氯離子氧化,產生氯氣:ClO+ Cl+2H = Cl2↑+ H2O,故D正確;故選C

練習冊系列答案
相關習題

科目:高中化學 來源: 題型:

【題目】已知在稀溶液中,酸跟堿發(fā)生中和反應生成1 mol水時的反應熱叫做中和熱,F(xiàn)利用如圖裝置進行中和熱的測定,請回答下列問題:

1)圖示裝置有兩處重要組成部分未畫出,它們是____________ 、_______________

2)燒杯間填滿碎泡沫塑料的作用是 ________________。

3)若操作時分幾次注入反應液,求得的反應熱數(shù)值_____(填偏大”“偏小無影響)。

4)做一次完整的中和熱測定實驗,溫度計需使用__________次。

5)量取0.5 mol/L的鹽酸和0.55 mol/LNaOH溶液各50 mL進行實驗,測得鹽酸和NaOH溶液起始平均溫度為t1,混合反應后最高溫度為t2,設溶液密度均為1 g/mL,生成溶液的比熱容c= 4.18 J/(g℃)。請列式計算中和熱:H= ______________kJ/mol(不用化簡)。

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科目:高中化學 來源: 題型:

【題目】對于一個反應可以從多個角度認識。下列關于鹽酸與NaOH溶液反應的說法不正確的是

A.屬于復分解反應B.屬于離子反應

C.屬于中和反應D.屬于氧化還原反應

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科目:高中化學 來源: 題型:

【題目】 4 mol A 氣體和 2 mol B 氣體在 2 L 的容器中混合并在一定條件下發(fā)生如下反應:2A)+B)=2C),若經 2 s后測得 C 的濃度為 0.6 mol·L1 ,現(xiàn)有下列幾種說法

用物質 A 表示的反應的平均速率為 0.3 mol·L1·s1

用物質 B 表示的反應的平均速率為 0.6 mol·L1·s1

③ 2 s 時物質 A 的轉化率為70

④ 2 s 時物質 B 的濃度為 0.7 mol·L1其中正確的是( )

A. ①③ B. ①④ C. ②③ D. ③④

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科目:高中化學 來源: 題型:

【題目】鹵族元索的單質和化合物在生產生活中有重要的用途。

(1)基態(tài)溴原子的核外電子排布式為[Ar]_________。

(2)在一定濃度的HF溶液中,氟化氫是以締合形式(HF)2存在的。使氟化氫分子締合的作用力是_________。

(3)HIO3的酸性_________(填“強于”或“弱于”)HIO4,原因是_________。

(4)ClO2-中心氯原子的雜化類型為_________,ClO3-的空間構型為_________

(5)晶胞有兩個基本要素:①原子坐標參數(shù):表示晶胞內部各微粒的相對位置。下圖是CaF2的晶胞,其中原子坐標參數(shù)A處為(0,0,0);B處為(, ,0);C處為(1,1,1)。則D處微粒的坐標參數(shù)為_________。

②晶胞參數(shù):描述晶胞的大小和形狀。已知CaF2晶體的密度為cg·cm-3,則晶胞中Ca2+與離它最近的F-之間的距離為_________nm(設NA為阿伏加德羅常數(shù)的值,用含C、NA的式子表示;相對原子質量:Ca 40 F 19)。

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科目:高中化學 來源: 題型:

【題目】-空氣電池由于具有較高的比能量而成為未來電動汽車的希望。其原理模型如圖所示,下列說法不正確的是

A. 可以用LiOH溶液做電解質溶液

B. 鋰既是負極材料又是負極反應物

C. 正極反應為2Li+ + O2 + 2e- Li2O2

D. 正極采用多孔碳材料是為了更好的吸附空氣

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科目:高中化學 來源: 題型:

【題目】一定溫度下,影響一定質量氣體體積大小的決定因素是(
A.氣體的密度
B.氣體分子體積的大小
C.氣體分子間的平均距離
D.氣體的相對分子質量

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科目:高中化學 來源: 題型:

【題目】工業(yè)上用蝕刻液浸泡銅板可制備印刷電路板,產生的蝕刻廢液需要回收利用。

1應用傳統(tǒng)蝕刻液(HCl-FeCl3)

蝕刻銅板主要反應的離子方程式為________。

該蝕刻液中加入一定量鹽酸的目的為________,同時提高蝕刻速率。

③FeCl3型酸性廢液處理是利用FeCl2分別作為還原劑和氧化劑,可回收銅并使蝕刻液再生。發(fā)生的主要化學反應有:Fe+2Fe3+ 3Fe2+、Fe+Cu2+ Fe2++Cu,還有________、________。(用離子方程式表示)。

2應用酸性蝕刻液(HCl-H2O2),產生的蝕刻廢液處理方法如下:

①蝕刻銅板主要反應的離子方程式為________。

回收微米級Cu2O過程中,加入的試劑A______填字母)。

a.Fe b.葡萄糖 c. NaCl固體 d.酸性KMnO4溶液

回收Cu2(OH)2CO3的過程中需控制反應的溫度,當溫度高于80℃時,產品顏色發(fā)暗,其原因可能是________。

3應用堿性蝕刻液(NH3H2O–NH4Cl) 蝕刻銅板,會有Cu(NH3)4Cl2和水生成。蝕刻銅板主要反應的化學方程式為________。

4與常規(guī)方法不同,有研究者用HCl-CuCl2做蝕刻液。蝕銅結束,會產生大量含Cu+廢液,采用如圖所示方法,可達到蝕刻液再生回收金屬銅的目的。此法采用摻硼的人造鉆石BDD電極,可直接從水中形成一種具有強氧化性的氫氧自由基HO),進一步反應實現(xiàn)蝕刻液再生,結合化學用語解釋CuCl2蝕刻液再生的原理________。

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科目:高中化學 來源: 題型:

【題目】一定溫度下,一定體積的密閉容器中有如下平衡:H2(g)I2(g)2HI(g) ,已知H2I2的起始濃度均為0.1 mol·L1時,達平衡時HI濃度為0.16 mol·L1。若H2I2的起始濃度均變?yōu)?/span>0.2 mol·L1,則平衡時H2的濃度(mol·L1)是

A. 0.16 B. 0.08 C. 0.04 D. 0.02

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