題目列表(包括答案和解析)
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①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅?
②粗硅與干燥HCl氣體反應(yīng)制得SiHCl3:Si+3HClSiHCl3+H2?
③SiHCl3與過量H2在1 000~1
已知SiHCl3能與H2O強(qiáng)烈反應(yīng),在空氣中易自燃。?
請完成下列問題:?
(1)第①步制備粗硅的化學(xué)反應(yīng)方程式為________________。?
(2)粗硅與HCl反應(yīng)完全后,經(jīng)冷凝得到的SiHCl3(沸點(diǎn)
(3)用SiHCl3與過量H2反應(yīng)制備純硅的裝置如下(熱源及夾持裝置略去):?
①裝置B中的試劑是________,裝置C中的燒瓶需要加熱,其目的是:________________。?
②反應(yīng)一段時(shí)間后,裝置D中觀察到的現(xiàn)象是________________________,裝置D不能采用普通玻璃管的原因是________________,裝置D中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為________________________。?
③為保證制備純硅實(shí)驗(yàn)的成功,操作的關(guān)鍵是檢查實(shí)驗(yàn)裝置的氣密性,控制好反應(yīng)溫度以及________________________________。?
④為鑒定產(chǎn)品硅中是否含微量鐵單質(zhì),將試樣用稀鹽酸溶解,取上層清液后需再加入的試劑(填寫字母代號)是________。?
a.碘水
b.氯水
c.NaOH溶液
d.KSCN溶液
e.Na2SO3溶液
①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅
②粗硅與干燥HCl氣體反應(yīng)制得SiHCl3:
Si+3HClSiHCl3+H2
③SiHCl與過量H2在1 000—1 100℃反應(yīng)制得純硅
已知SiHCl3能與H2O強(qiáng)烈反應(yīng),在空氣中易自然。
請回答下列問題:
(1)第①步制備粗硅的化學(xué)反應(yīng)方程式為__________________________________________。
(2)粗硅與HCl反應(yīng)完全后,經(jīng)冷凝得到的SiHCl3(沸點(diǎn)33.0℃)中含有少量SiCl4(沸點(diǎn)57.6℃)和HCl(沸點(diǎn)-84.7℃),提純SiHCl3采用的方法為_______。
(3)用SiHCl3與過量H2反應(yīng)制備純硅的裝置如圖1-3-8(熱源及夾持裝置略去):
圖1-3-8
①裝置B中的試劑是_______。
裝置C中的燒瓶需要加熱,其目的是_____________________________________________。
②反應(yīng)一段時(shí)間后,裝置D中觀察到的現(xiàn)象是______________________________________。
裝置D不能采用普通玻璃管的原因是_______________,裝置D中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為______________________________。
③為保證制備純硅實(shí)驗(yàn)的成功,操作的關(guān)鍵是檢查實(shí)驗(yàn)裝置的氣密性,控制好反應(yīng)溫度以及_______。
④為鑒定產(chǎn)品硅中是否含微量鐵單質(zhì),將試樣用稀鹽酸溶解,取上層清液后需再加入的試劑(填寫字母代號)是_______。
a.碘水 b.氯水 c.NaOH溶液 d.KSCN溶液 e.Na2SO3溶液
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