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工業(yè)上由SiCl4制備高純硅時(shí),不使用鈉、鎂等活潑金屬做還原劑,而是用氫氣作還原劑其原因是 ( )
A.鈉或鎂等活潑金屬的價(jià)格昂貴,成本高
B.鈉或鎂等活潑金屬的還原性不及氫氣強(qiáng)
C.鈉或鎂等金屬可能與硅形成合金或殘留在硅中
D.鈉或鎂的熔點(diǎn)沒(méi)有硅高
工業(yè)上由SiCl4制備高純硅時(shí),不使用鈉、鎂等活潑金屬做還原劑,而是用氫氣作還原劑其原因是
A.鈉或鎂等活潑金屬的價(jià)格昂貴,成本高
B.鈉或鎂等活潑金屬的還原性不及氫氣強(qiáng)
C.鈉或鎂等金屬可能與硅形成合金或殘留在硅中
D.鈉或鎂的熔點(diǎn)沒(méi)有硅高
工業(yè)上由SiCl4制備高純硅時(shí),不使用鈉、鎂等活潑金屬做還原劑,而是用氫氣作還原劑其原因是 | |
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A. |
鈉或鎂等活潑金屬的價(jià)格昂貴,成本高 |
B. |
鈉或鎂等活潑金屬的還原性不及氫氣強(qiáng) |
C. |
鈉或鎂等金屬可能與硅形成合金或殘留在硅中 |
D. |
鈉或鎂的熔點(diǎn)沒(méi)有硅高 |
A.鈉或鎂等活潑金屬的價(jià)格昂貴,成本高 |
B.鈉或鎂等活潑金屬的還原性不及氫氣強(qiáng) |
C.鈉或鎂等金屬可能與硅形成合金或殘留在硅中 |
D.鈉或鎂的熔點(diǎn)沒(méi)有硅高 |
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