（2009?泰州模擬）高純超凈特種氣體主要用于制造半導體器件、化合物半導體、激光器、光導纖維、太陽能電池等．超純硅化氫制備方法如下：（已知：常溫下SiH₄難溶于水，與稀硫酸不反應，乙醚沸點34.6℃）
①由下列兩種方法制得SiH₄
方法一：Mg₂Si+4NH₄Cl

液氨

SiH₄+2MgCl₂+4NH₃
方法二：LiAlH₄+SiCl₄

C2H5OC2H5

SiH₄+AlCl₃+LiCl
②除去SiH₄中混有的雜質(zhì)氣體
請回答下列問題：
（1）對方法一的理解，有同學認為是NH₄⁺水解產(chǎn)生H⁺，Mg₂Si與H⁺反應生成SiH₄，你認為該觀點是否正確？并簡述理由．
（2）將方法二的固體產(chǎn)物溶于水，只有一種物質(zhì)能促進水的電離，則NaOH、Mg（OH）₂、LiOH堿性由強到弱的順序為．
（3）兩種方法制得的SiH₄中均含有少量雜質(zhì)，有同學提出用下列方法除去SiH₄中的雜質(zhì)，其中肯定不可行是．
a．用稀硫酸洗氣     b．高溫使雜質(zhì)分解      c．低溫分餾
（4）甲、乙、丙三同學在討論SiH₄制備方法的化學反應類型時發(fā)表如下觀點，你認為正確的是．
a．甲同學認為兩個反應均為氧化還原反應
b．乙同學認為兩個反應中只有一個屬于氧化還原反應
c．丙同學認為要判斷是否屬于氧化還原反應，還需要知道SiH₄中各元素具體的化合價．