工業(yè)上電解飽和食鹽水能制取多種化工原料，其中部分原料可用于制備多晶硅．下圖1是離子交換膜法（允許鈉離子通過(guò)，不允許氫氧根與氯離子通過(guò)）電解飽和食鹽水，電解槽陽(yáng)極產(chǎn)生的氣體是______，NaOH溶液的出口為_(kāi)_____（填字母），精制飽和食鹽水的進(jìn)口為_(kāi)_____（填字母），干燥塔中應(yīng)使用的液體是______．



（1）多晶硅主要采用SiHC1₃還原工藝生產(chǎn)，其副產(chǎn)物SiC1₄的綜合利用受到廣泛關(guān)注．SiC1₄可制氣相白炭黑（與光導(dǎo)纖維主要原料相同），方法為高溫下SiC1₄、H₂、O₂反應(yīng)，產(chǎn)物有兩種，化學(xué)方程式為_(kāi)_____．SiC1₄可轉(zhuǎn)化為SiC1₃而循環(huán)使用．一定條件下，在20L恒容密閉容器中反應(yīng)3SiC1₄（g）+2H₂（g）+Si（s）═4SiHC1₃（g）達(dá)平衡后，H₂與SiHC1₃物質(zhì)的量濃度分別為0.140mol/L和0.020mol/L，若H₂全部來(lái)源于離子交換膜法的電解產(chǎn)物，理論上需消耗NaC1的質(zhì)量為_(kāi)_____kg．
（2）如圖2，實(shí)驗(yàn)室制備H₂和Cl₂通常采用下列反應(yīng)：
Zn+H₂SO₄?ZnSO4+H2↑，MnO2+4HC1(濃)

△ .

.

MnC12+C12↑+2H2O
據(jù)此，從下列所給儀器裝置中選擇制備并收集H₂的裝置______（填代號(hào)）和制備并收集干燥、純凈C1₂的裝置______（填代號(hào)）．
可選用制備氣體的裝置：
（3）采用無(wú)膜電解槽電解飽和食鹽水，可制取氯酸鈉，同時(shí)生成氫氣．現(xiàn)制得氯酸鈉213.0kg，則生成氫氣______m³（標(biāo)準(zhǔn)狀況）．（忽略可能存在的其他反應(yīng)）

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（2013?濰坊模擬）工業(yè)上電解飽和食鹽水能制取多種化工原料，其中部分原料可用于制備多晶硅．下圖1是離子交換膜法（允許鈉離子通過(guò)，不允許氫氧根與氯離子通過(guò)）電解飽和食鹽水，電解槽陽(yáng)極產(chǎn)生的氣體是

氯氣

氯氣

，NaOH溶液的出口為

a

a

（填字母），精制飽和食鹽水的進(jìn)口為

d

d

（填字母），干燥塔中應(yīng)使用的液體是

濃硫酸

濃硫酸

．

（1）多晶硅主要采用SiHCl₃還原工藝生產(chǎn)，其副產(chǎn)物SiCl₄的綜合利用受到廣泛關(guān)注．SiCl₄可制氣相白炭黑（與光導(dǎo)纖維主要原料相同），方法為高溫下SiCl₄、H₂、O₂反應(yīng)，產(chǎn)物有兩種，化學(xué)方程式為

SiCl₄+2H₂+O₂

高溫  .

SiO₂+4HCl

SiCl₄+2H₂+O₂

高溫  .

SiO₂+4HCl

．SiCl₄可轉(zhuǎn)化為SiCl₃而循環(huán)使用．一定條件下，在20L恒容密閉容器中反應(yīng)3SiCl₄（g）+2H₂（g）+Si（s）═4SiHCl₃（g）達(dá)平衡后，H₂與SiHCl₃物質(zhì)的量濃度分別為0.140mol/L和0.020mol/L，若H₂全部來(lái)源于離子交換膜法的電解產(chǎn)物，理論上需消耗NaCl的質(zhì)量為

0.35

0.35

kg．
（2）如圖2，實(shí)驗(yàn)室制備H₂和Cl₂通常采用下列反應(yīng)：
Zn+H₂SO₄?ZnSO4+H2↑，MnO2+4HCl(濃)

△ .

.

MnCl2+Cl2↑+2H2O
據(jù)此，從下列所給儀器裝置中選擇制備并收集H₂的裝置

e

e

（填代號(hào)）和制備并收集干燥、純凈Cl₂的裝置

d

d

（填代號(hào)）．
可選用制備氣體的裝置：
（3）采用無(wú)膜電解槽電解飽和食鹽水，可制取氯酸鈉，同時(shí)生成氫氣．現(xiàn)制得氯酸鈉213.0kg，則生成氫氣

134.4

134.4

m³（標(biāo)準(zhǔn)狀況）．（忽略可能存在的其他反應(yīng)）

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（2012?長(zhǎng)寧區(qū)一模）Ⅰ．工業(yè)上電解飽和食鹽能制取多種化工原料，其中部分原料可用于制備多晶硅．
（1）原料粗鹽中常含有泥沙和Ca²⁺、Mg²⁺、Fe³⁺、SO₄^2-等雜質(zhì)，必須精制后才能供電解使用．精制時(shí)，粗鹽溶于水過(guò)濾后，還要加入的試劑分別為①Na₂CO₃、②HCl（鹽酸）③BaCl₂，這3種試劑添加的合理順序是

③①②

③①②

（填序號(hào)）洗滌除去NaCl晶體表面附帶的少量KCl，選用的試劑為

③

③

．（填序號(hào)）（①飽和Na₂CO₃溶液  ②飽和K₂CO₃溶液  ③75%乙醇�、芩穆然�碳）
（2）如圖是離子交換膜（允許鈉離子通過(guò)，不允許氫氧根與氯離子通過(guò)）法電解飽和食鹽水示意圖，電解槽陽(yáng)極產(chǎn)生的氣體是

氯氣

氯氣

；NaOH溶液的出口為

a

a

（填字母）；精制飽和食鹽水的進(jìn)口為

d

d

（填字母）；干燥塔中應(yīng)使用的液體是

濃硫酸

濃硫酸

．

Ⅱ．多晶硅主要采用SiHCl₃還原工藝生產(chǎn)，其副產(chǎn)物SiCl₄的綜合利用受到廣泛關(guān)注．
（1）SiCl₄可制氣相白炭黑（與光導(dǎo)纖維主要原料相同），方法為高溫下SiCl₄與H₂和O₂反應(yīng)，產(chǎn)物有兩種，化學(xué)方程式為

SiCl₄+2H₂+O₂

高溫  .

SiO₂+4HCl

SiCl₄+2H₂+O₂

高溫  .

SiO₂+4HCl

．
（2）SiCl₄可轉(zhuǎn)化為SiHCl₃而循環(huán)使用．一定條件下，在20L恒容密閉容器中的反應(yīng)：
3SiCl₄（g）+2H₂（g）+Si（s）?4SiHCl₃（g）
達(dá)平衡后，H₂與SiHCl₃物質(zhì)的量濃度分別為0.140mol/L和0.020mol/L，若H₂全部來(lái)源于離子交換膜法的電解產(chǎn)物，理論上需消耗純NaCl的質(zhì)量為

0.351

0.351

kg．
（3）實(shí)驗(yàn)室制備H₂和Cl₂通常采用下列反應(yīng)：
Zn+H₂SO₄→ZnSO₄+H₂↑；MnO₂+4HCl（濃）

△

MnCl₂+Cl₂↑+2H₂O
據(jù)此，從下列所給儀器裝置中選擇制備并收集H₂的裝置

e

e

（填代號(hào)）和制備并收集干燥、純凈Cl₂的裝置

d

d

（填代號(hào)）．
可選用制備氣體的裝置：

（4）采用無(wú)膜電解槽電解飽和食鹽水，可制取氯酸鈉，同時(shí)生成氫氣，現(xiàn)制得氯酸鈉213.0kg，則生成氫氣

134.4

134.4

m³（標(biāo)準(zhǔn)狀況）．（忽略可能存在的其他反應(yīng)）
某工廠生產(chǎn)硼砂過(guò)程中產(chǎn)生的固體廢料，主要含有MgCO₃、MgSiO₃、CaMg（CO₃）₂、Al₂O₃和Fe₂O₃等，回收其中鎂的工藝流程如下：

沉淀物	Fe（OH）3	Al（OH）3	Mg（OH）2
PH	3.2	5.2	12.4

Ⅲ．部分陽(yáng)離子以氫氧化物形式完全沉淀時(shí)溶液的pH見(jiàn)上表，請(qǐng)回答下列問(wèn)題：
（1）“浸出”步驟中，為提高鎂的浸出率，可采取的措施有

適當(dāng)提高反應(yīng)溫度、增加浸出時(shí)間

適當(dāng)提高反應(yīng)溫度、增加浸出時(shí)間

（要求寫(xiě)出兩條）．
（2）濾渣I的主要成分是

Fe（OH）₃、Al（OH）₃

Fe（OH）₃、Al（OH）₃

．
Mg（ClO₃）₂在農(nóng)業(yè)上可用作脫葉劑、催熟劑，可采用復(fù)分解反應(yīng)制備：
MgCl₂+2NaClO₃→Mg（ClO₃）₂+2NaCl
已知四種化合物的溶解度（S）隨溫度（T）變化曲線如圖所示：

（3）將反應(yīng)物按化學(xué)反應(yīng)方程式計(jì)量數(shù)比混合制備Mg（ClO₃）₂．簡(jiǎn)述可制備Mg（ClO₃）₂的原因：

在某一溫度時(shí)，NaCl最先達(dá)到飽和析出；Mg（ClO₃）₂的溶解度隨溫度變化的最大，NaCl的溶解度與其他物質(zhì)的溶解度有一定的差別；

在某一溫度時(shí)，NaCl最先達(dá)到飽和析出；Mg（ClO₃）₂的溶解度隨溫度變化的最大，NaCl的溶解度與其他物質(zhì)的溶解度有一定的差別；

．
（4）按題（3）中條件進(jìn)行制備實(shí)驗(yàn)．在冷卻降溫析出Mg（ClO₃）₂過(guò)程中，常伴有NaCl析出，原因是：

降溫前，溶液中NaCl已達(dá)飽和，降低過(guò)程中，NaCl溶解度會(huì)降低，會(huì)少量析出；

降溫前，溶液中NaCl已達(dá)飽和，降低過(guò)程中，NaCl溶解度會(huì)降低，會(huì)少量析出；

．除去產(chǎn)品中該雜質(zhì)的方法是：

重結(jié)晶

重結(jié)晶

．

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一、選擇題（本題共10分），每小題2分，只有一個(gè)正確選項(xiàng)。

題號(hào)

1

2

3

4

5

答案

B

D

A

A

A

二、選擇題（本題共36分），每小題3分，只有一個(gè)正確選項(xiàng)

題號(hào)

6

7

8

9

10

11

12

13

14

15

16

17

答案

B

A

C

C

B

D

D

B

A

C

C

A

三、選擇題（本題共20分），每小題4分，每小題有一個(gè)或兩個(gè)正確選項(xiàng)。只有一個(gè)正確選項(xiàng)的，多選不給分；有兩個(gè)正確選項(xiàng)的，選對(duì)一個(gè)給2分，選錯(cuò)一個(gè)該小題不給分。

題號(hào)

18

19

20

21

22

答案

C

BC

BD

AC

AD

                  第Ⅱ卷  （共84分）

四、填空題（本題共24分）

23、（8分）

（1）（全對(duì)2分，有一空錯(cuò)即不得分）

A

C

D

F  

     G

      H

     I

（2）A E I  （1分）

（3）三、IIIA ，1s¹2s¹2p³3s¹3p² , BH    （每空1分，共4分）

   (4) 1（1分）

24、（8分）

(1)0．0020 mol/L^.S（2分）

(2）1．8mol?L^-1(2分，數(shù)據(jù)1分，單位1分)

(3）變淺(1分)

(4）D(1分)

(5)60℃曲線(2分)

25、（8分）

（1）14HNO₃＋3Cu₂O→6Cu(NO₃)₂＋2NO↑＋7H₂O  （2分）
（2）酸性  氧化性（每空1分，共2分）
（3）0.6mol（2分）
（4）使用了較濃的硝酸，產(chǎn)物中有部分二氧化氮生成（2分）

五、（本題共24分）

26 （12分）

（1）SO₂（g）+O₂（g）→ SO₃（g）+98.3kJ  或其他合理答案。 （2分）

（2）提高二氧化硫的轉(zhuǎn)化率；濃H₂SO₄                （2分， 各1分）

（3）給催化劑加熱；                               （1分）

（4）防止溫度過(guò)高，降低SO₂轉(zhuǎn)化率及催化劑活性    （2分，答出一點(diǎn)得1分）

（5）降溫，使SO₃凝結(jié)成晶體；                     （1分）

（6）或×100%                               （2分）

（7）將尾氣通入盛有濃硫酸的洗氣瓶后再通入盛有氫氧化鈉溶液的洗氣瓶

（或通入盛有足量堿石灰的干燥管等）                 （2分）

（只答通入氫氧化鈉溶液不得分。只要保證SO₂和SO₃不污染環(huán)境，SO₃不與空氣中的水接觸的合理方案均給分）

27（12分）

（1）CaCl₂+H₂O₂+2NH₃+8H₂O → CaO₂?8H₂O↓+2NH₄Cl

         或：CaCl₂+H₂O₂+2NH₃?H₂O +6H₂O → CaO₂?8H₂O↓+2NH₄Cl  （2分）

（2）冰水浴冷卻（或?qū)⒎磻?yīng)容器浸泡在冰水中）       （1分）

（3）NH₄Cl      A                                 （2分，各1分）

（4）稀硝酸酸化的硝酸銀溶液                       （2分）

（5）①溶液由藍(lán)色變?yōu)闊o(wú)色                         （1分）

②                                 （2分）

③偏高，在酸性條件下空氣中的O₂也可以把KI氧化為I₂，使消耗的Na₂S₂O₃增多，從而使測(cè)得的CaO₂的質(zhì)量分?jǐn)?shù)偏高               (2分)

六、（本題共20分）

28、(10分)

（1）2，2?二甲基丁烷(1分)，C₁₂H₂₄O₂(1分)

（2）(CH₃)₃CCH₂CH₂Cl+ H₂O(CH₃)₃CCH₂CH₂OH+ HCl

或：(CH₃)₃CCH₂CH₂Cl+ NaOH→ (CH₃)₃CCH₂CH₂OH+ NaCl     (2分，無(wú)條件扣1分)               加熱

 (CH₃)₃CCHClCH₃+ NaOH(CH₃)₃CCH＝CH₂+ NaCl + H₂O(2分，無(wú)條件扣1分)

（3）9 mol(1分)

（4）2(1分)       CH₃CH(OH)CH₃或CH₃CH(OH)CH₂CH₃(2分)

29、（10分）

（1）3         （1分）

（2）2         （2分） 

（3）        （1分）

（4）消去反應(yīng)；取代反應(yīng)。  （2分，各1分）

（5）CH₃CH＝CH₂＋Cl₂eq \o(\s\up 2(500℃――――→Cl－CH₂CH＝CH₂＋HCl（2分，方程式要求全對(duì)才給分）