硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣.請回答下列問題:(1)制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅.三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法.生產(chǎn)過程示意圖如下: 查看更多

 

題目列表(包括答案和解析)

硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣。請回答下列問題:

(1)制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法,生產(chǎn)過程示意圖如下:

①寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式____________________________。

②整個制備過程必須嚴(yán)格控制無水無氧。SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì),寫出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式_________________;H2還原SiHCl3過程中若混入O2,可能引起的后果是_________________________。

(2)下列有關(guān)硅材料的說法正確的是__________________(填字母)。

A.碳化硅化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,可用于生產(chǎn)耐高溫水泥

B.氮化硅硬度大、熔點(diǎn)高,可用于制作高溫陶瓷和軸承

C.高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料——光導(dǎo)纖維

D.普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的,其熔點(diǎn)很高

E.鹽酸可以與硅反應(yīng),故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅

(3)硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中,逐滴加入飽和氯化銨溶液,振蕩。寫出實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象并給予解釋_______________________________。

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硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣。請回答下列問題:三硅酸鎂(2MgO·3SiO2·nH2O)被用來治療胃潰瘍,是因?yàn)樵撐镔|(zhì)不溶于水,服用后能中和胃酸,作用持久。寫出三硅酸鎂與胃酸(鹽酸)反應(yīng)的化學(xué)方程式:

                                                           

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硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣。請回答下列問題:

    (1)制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法,生產(chǎn)過程示意圖如下:

    ①寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式        。

    ②整個制備過程必須嚴(yán)格控制無水無氧。SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì),寫出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式           ;H2還原SiHCl3過程中若混入O2,可能引起的后果是                                 。

    (2)下列有關(guān)硅材料的說法正確的是         (填字母)。

      A.碳化硅化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,可用于生產(chǎn)耐高溫水泥

      B.氮化硅硬度大、熔點(diǎn)高,可用于制作高溫陶瓷和軸承

      C.高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料——光導(dǎo)纖維

      D.普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的,其熔點(diǎn)很高

      E.鹽酸可以與硅反應(yīng),故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅

(3)硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中,逐滴加入飽和氯化銨溶液,振蕩。寫出實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象并給予解釋          。

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硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣。請回答下列問題:

(1)制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當(dāng)前制備高純硅  的主要方法,生產(chǎn)過程示意圖如下:

      

①     寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式

________________________________________________________________________

________________________________________________________________________。

②     整個制備過程必須嚴(yán)格控制無水無氧。SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì),寫出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式

________________________________________________________________________;

H2還原SiHCl3過程中若混入O2,可能引起的后果是

________________________________________________________________________。

(2)下列有關(guān)硅材料的說法正確的是________(填字母)。

A.碳化硅化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,可用于生產(chǎn)耐高溫水泥

B.氮化硅硬度大、熔點(diǎn)高,可用于制作高溫陶瓷和軸承

C.高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料——光導(dǎo)纖維

D.普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的,其熔點(diǎn)很高

E.鹽酸可以與硅反應(yīng),故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅

(3)硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中,逐滴加入飽和氯化銨溶液,      振蕩。寫出實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象并給予解釋:

________________________________________________________________________

________________________________________________________________________

________________________________________________________________________。

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(16分)硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣。請回答下列問題:

制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法,生產(chǎn)過程示意圖如下:

(1)在制粗硅的反應(yīng)中,焦炭的作用是                                                  

(2)整個制備過程必須嚴(yán)格控制無水、無氧。

①SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì),寫出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式    ;②H2還原SiHCl3過程中若混O2,可能引起的后果是                                    

 (3)硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中,逐滴加入飽和氯化銨溶液,振蕩。寫出實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象并給予解釋                                                             。

 

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