下列物質(zhì)中用于制造光導(dǎo)纖維的主要原料是


  1. A.
    石灰石
  2. B.
    二氧化硅
  3. C.
    鐵
  4. D.
    硅
練習(xí)冊(cè)系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：

下列有關(guān)物質(zhì)的性質(zhì)和應(yīng)用不相對(duì)應(yīng)的是（　�。�
A、Na2O2能與CO2反應(yīng)生成O2，可用于潛艇內(nèi)供氧B、Cl2能與水反應(yīng)生成HClO，可用于自來(lái)水的消毒C、Mg在空氣中燃燒時(shí)發(fā)出耀眼的白光，可用于制造信號(hào)彈D、N2與O2在放電時(shí)反應(yīng)生成NO，此反應(yīng)用于工業(yè)上制硝酸

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科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：

硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣。請(qǐng)回答下列問(wèn)題：

    （1）制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法，生產(chǎn)過(guò)程示意圖如下：

    ①寫(xiě)出由純SiHCl3制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式        。

    ②整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水無(wú)氧。SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì)，寫(xiě)出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式           ；H2還原SiHCl3過(guò)程中若混入O2，可能引起的后果是                                 。

    （2）下列有關(guān)硅材料的說(shuō)法正確的是         (填字母)。

      A．碳化硅化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，可用于生產(chǎn)耐高溫水泥

      B．氮化硅硬度大、熔點(diǎn)高，可用于制作高溫陶瓷和軸承

      C．高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料——光導(dǎo)纖維

      D．普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的，其熔點(diǎn)很高

      E．鹽酸可以與硅反應(yīng)，故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅

（3）硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中，逐滴加入飽和氯化銨溶液，振蕩。寫(xiě)出實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象并給予解釋          。

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科目：高中化學(xué) 來(lái)源：2011-2012學(xué)年廣東省惠陽(yáng)一中實(shí)驗(yàn)學(xué)校高一下學(xué)期3月月考化學(xué)試卷（帶解析） 題型：填空題

硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣。請(qǐng)回答下列問(wèn)題：
(1)制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。
三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法，生產(chǎn)過(guò)程示意圖如下：

①寫(xiě)出由純SiHCl3制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式                                 。
②整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水無(wú)氧。SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì)，寫(xiě)出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式                                             ；
H2還原SiHCl3過(guò)程中若混入O2，可能引起的后果是                                 
                                                                            。
(2)下列有關(guān)硅材料的說(shuō)法正確的是        (填字母)。

A．碳化硅化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，可用于生產(chǎn)耐高溫水泥
B．氮化硅硬度大、熔點(diǎn)高，可用于制作高溫陶瓷和軸承
C．高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料——光導(dǎo)纖維
D．普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的，其熔點(diǎn)很高
E．鹽酸可以與硅反應(yīng)，故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅
高溫

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科目：高中化學(xué) 來(lái)源：2013學(xué)年江西省德興一中、橫峰中學(xué)、鉛山一中、弋陽(yáng)一中高一第三次月考化學(xué)試卷（帶解析） 題型：填空題

（10分)硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣。請(qǐng)回答下列問(wèn)題:
(1)制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法,生產(chǎn)過(guò)程示意圖如下:

①寫(xiě)出由純制備高純硅的化學(xué)方程式:                         。
②整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水無(wú)氧。遇水劇烈反應(yīng)生成、HCl和另一種物質(zhì),配平后的化學(xué)反應(yīng)方程式為?                   ;還原過(guò)程中若混入可能引起的后果是?                 。
(2)下列有關(guān)硅材料的說(shuō)法正確的是?       (填字母)。

A．碳化硅化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,可用于生產(chǎn)耐高溫水泥
B．氮化硅硬度大、熔點(diǎn)高,可用于制作高溫陶瓷和軸承
C．高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料——光導(dǎo)纖維
D．普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的,其熔點(diǎn)很高
E.鹽酸可以與硅反應(yīng),故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅
(3)硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中,逐滴加入稀硝酸,振蕩。寫(xiě)出實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象并給予解釋                         。

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科目：高中化學(xué) 來(lái)源：2013學(xué)年江西省、鉛山一中、弋陽(yáng)一中高一第三次月考化學(xué)試卷（解析版） 題型：填空題

（10分)硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣。請(qǐng)回答下列問(wèn)題:

(1)制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法,生產(chǎn)過(guò)程示意圖如下:

①寫(xiě)出由純制備高純硅的化學(xué)方程式:                         。

②整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水無(wú)氧。遇水劇烈反應(yīng)生成、HCl和另一種物質(zhì),配平后的化學(xué)反應(yīng)方程式為?                   ;還原過(guò)程中若混入可能引起的后果是?                 。

(2)下列有關(guān)硅材料的說(shuō)法正確的是?       (填字母)。

A．碳化硅化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,可用于生產(chǎn)耐高溫水泥

B．氮化硅硬度大、熔點(diǎn)高,可用于制作高溫陶瓷和軸承

C．高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料——光導(dǎo)纖維

D．普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的,其熔點(diǎn)很高

E.鹽酸可以與硅反應(yīng),故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅

(3)硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中,逐滴加入稀硝酸,振蕩。寫(xiě)出實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象并給予解釋                         。

 

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