A.上述反應中,N2是還原劑,Al2O3是氧化劑
B.上述反應中,每生成1molAlN需轉(zhuǎn)移3mol電子
C.AlN中氮元素的化合價為+3
D.AlN的摩爾質(zhì)量為41g
科目:高中化學 來源: 題型:
(08年廣東卷)硅單質(zhì)及其化合物應用范圍很廣。請回答下列問題:
制備硅半導體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當前制備高純硅的主要方法,生產(chǎn)過程示意圖如下:
①寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學反應方程式________。
②整個制備過程必須嚴格控制無水無氧。SiHCl3遇水劇烈反應生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì),寫出配平的化學反應方程式____;H2還原SihCl3過程中若混02,可能引起的后果是______ 。
(2)下列有頭硅材料的詳法正確的是_____ (填字母)。
A.碳化硅化學性質(zhì)穩(wěn)定,可用于生產(chǎn)耐高溫水混
B.氮化硅硬度大、熔點高,可用于制作高溫陶瓷和軸承
C.普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂的,其熔點很高
D.鹽酸可以與硅反應,故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅
E.鹽酸可以和硅反應,故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅
(3)硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中,逐滴加入飽和氯化銨溶液,振蕩。寫出實驗現(xiàn)象并給予解釋_____。
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