【題目】以粗硅(含硅、硼等)為原料制取四氯化硅(SiCl4)的裝置示意圖如下:

已知:①SiCl4遇水易反應;BCl3SiCl4互溶。

②高溫下硅、硼與氯氣反應后所得物質的部分性質如表:

物質

SiCl4

BCl3

沸點/

57.7

12.8

熔點/

-70.0

-107.2

1)裝置A中盛裝濃鹽酸的儀器名稱是___。

2)用濕潤的淀粉KI試紙可以檢驗Cl2,寫出表示該反應原理的離子方程式:___

3)裝置B中飽和食鹽水的作用是___。

4)裝置D中收集到的物質,可用___方法分離出純凈的SiCl4。

5)裝置E中應裝入的試劑名稱是___,其作用有___、___。

【答案】分液漏斗 Cl22II22Cl 除去Cl2中的HCl 蒸餾 堿石灰 除去尾氣中的氯氣 防止空氣中的水蒸氣進入U型管內(nèi),與四氯化硅發(fā)生反應

【解析】

由制備四氯化硅的實驗流程可知,A中二氧化錳與濃鹽酸加熱反應生成氯氣,制取的氯氣中混有HCl,需要用B中飽和食鹽水除去HCl,C裝置中濃硫酸干燥氯氣;裝置DSi與氯氣加熱反應生成四氯化硅;SiCl4遇水易反應,氯氣有毒,需要用E中堿石灰吸收氯氣及空氣中水蒸氣;雜質BCl3SiCl4的沸點相差較大,可用蒸餾的方法分離,據(jù)此解答。

1)裝置A中盛裝濃鹽酸的儀器名稱為分液漏斗,

故答案為:分液漏斗;

2)氯氣能夠將碘化鉀氧化成碘單質,淀粉遇碘單質變藍,用濕潤的淀粉KI試紙可以檢驗Cl2,發(fā)生反應為:Cl22II22Cl;

3)制取的氯氣中混有HCl,需要用B中飽和食鹽水除去HCl,

故答案為:除去Cl2中混有的HCl;

4)根據(jù)標準沸點數(shù)據(jù)可知,BCl3SiCl4的沸點相差較大,可用蒸餾的方法分離出純凈的SiCl4;

5)由于SiCl4遇水易反應,且氯氣有毒,需要用裝置E中堿石灰吸收剩余的氯氣、防止空氣中水蒸氣進入U形管,

故答案為:堿石灰;除去尾氣中的氯氣;防止空氣中的水蒸氣進入U型管內(nèi),與四氯化硅發(fā)生反應。

練習冊系列答案
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4)經(jīng)X射線衍射測定發(fā)現(xiàn),晶體鈷在417℃以上堆積方式的剖面圖如圖所示,則該堆積方式屬于_____,若該堆積方式下鈷原子的半徑為r,則該晶體的空間利用率為______(列出表達式并寫出最終結果)。

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1)下列物質與A以任意比例混合,若總物質的量一定,充分燃燒消耗氧氣的量不相等的是(填序號)________。

aC7H12O2 bC6H14 cC6H14O dC7H14O3

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(1)如圖所示的儀器中配制溶液肯定不需要的是__________(填序號),配制上述溶液還需用到的玻璃儀器是__________(填儀器名稱)。

(2)配制0.1mol·L1NaOH溶液操作步驟如下:

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②把所得溶液冷卻至室溫,再小心轉入一定容積的容量瓶中;

③繼續(xù)向容量瓶中加蒸餾水至液面距刻度線12cm處,改用膠頭滴管小心滴加蒸餾水至溶液凹液面與刻度線相切;

④用少量蒸餾水洗滌燒杯和玻璃棒23次,每次洗滌的液體都小心轉入容量瓶,并輕輕搖勻;

⑤將容量瓶瓶塞塞緊,充分搖勻。

操作步驟的正確順序為__________(填序號)。

(3)根據(jù)計算用托盤天平稱取NaOH的質量為__________g。在實驗中其他操作均正確,若容量瓶用蒸餾水洗滌后未干燥,則所得溶液濃度______________0.10mol·L1(大于”“等于小于,下同)。若還未等溶液冷卻就定容了,則所得溶液濃度__________0.10mol·L1

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