光纖預(yù)制棒是光纜生產(chǎn)的最“源頭”項(xiàng)目,目前國(guó)內(nèi)光纜生產(chǎn)廠(chǎng)家約200家,大部分靠買(mǎi)進(jìn)口光纖預(yù)制棒來(lái)生產(chǎn)光纜。
(1)光纖預(yù)制棒跟光導(dǎo)纖維的成分相同,那么光纖預(yù)制棒的化學(xué)成分是         。   
(2)如果把光纜裸露在堿性土壤中,結(jié)果會(huì)短路,用離子方程式說(shuō)明原因                                                                      。
(3)下列說(shuō)法正確的是       。
A.石英與普通玻璃都是硅酸鹽制品
B.二氧化硅是良好的半導(dǎo)體材料
C.工藝師用鹽酸刻蝕石英制作藝術(shù)品
D.石英與二氧化碳中的化學(xué)鍵相同
(4)石英可以制備各種各樣的陶瓷制品,如坩堝、蒸發(fā)皿、氮化硅高溫結(jié)構(gòu)陶瓷等。寫(xiě)出氮化硅的化學(xué)式             ,工業(yè)上用石英、焦炭、氮?dú)庠诟邷貤l件下制備氮化硅,寫(xiě)出反應(yīng)的化學(xué)方程式                                                                       。
(1)SiO2。2)SiO2+2OH=SiO+H2O
(3)D。4)Si3N4 3SiO2+2N2+6CSi3N4+6CO

試題分析:(1)光導(dǎo)纖維的成分為SiO2,光纖預(yù)制棒跟光導(dǎo)纖維的成分相同,則光纖預(yù)制棒的化學(xué)成分也是SiO2
(2)SiO2為酸性氧化物,能與堿反應(yīng),離子方程式為:SiO2+2OH=SiO+H2O
(3)A、石英的成分是SiO2,為氧化物,不是硅酸鹽,錯(cuò)誤;B、二氧化硅不能導(dǎo)電,錯(cuò)誤;C、工藝師用氫氟酸刻蝕石英制作藝術(shù)品,錯(cuò)誤;D、石英與二氧化碳中的化學(xué)鍵都是共價(jià)鍵,相同,正確。
(4)根據(jù)化合價(jià)可寫(xiě)出氮化硅的化學(xué)式:Si3N4;根據(jù)題目信息,反應(yīng)物為SiO2、C、氮?dú),生成物為SiO2、CO,配平可得化學(xué)方程式!
練習(xí)冊(cè)系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目:高中化學(xué) 來(lái)源:不詳 題型:單選題

下列說(shuō)法中,正確的是(  )
A.酸性氧化物都不與酸溶液反應(yīng)
B.陶瓷、水泥及所有的玻璃都是硅酸鹽產(chǎn)品
C.某些非金屬單質(zhì)既能與酸反應(yīng)也能與堿反應(yīng)
D.硅酸鹽都是難溶于水的

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源:不詳 題型:填空題

CO2是目前大氣中含量最高的一種溫室氣體。因此,控制和治理CO2是解決溫室效應(yīng)的有效途徑。
(1)下列關(guān)于CO2的說(shuō)法正確的是(填序號(hào))_________。
①減少化石燃料的使用,充分利用太陽(yáng)能、風(fēng)能等清潔能源可有效降低大氣中CO2的含量
②植樹(shù)造林,增大植被面積可以有效降低大氣中CO2的含量
③二氧化硫、氮氧化物、二氧化碳、懸浮微粒的含量都是空氣質(zhì)量日?qǐng)?bào)的內(nèi)容
④空氣中CO2的含量過(guò)高會(huì)導(dǎo)致酸雨的形成
(2)下列措施不能減少二氧化碳排放的是(填序號(hào)) _________。
①利用太陽(yáng)能制氫
②關(guān)停小火電企業(yè)
③舉行“地球一小時(shí)”熄燈活動(dòng)
④推廣使用煤液化技術(shù)
(3)下列反應(yīng)不產(chǎn)生溫室氣體的是(填序號(hào))_________。
①用純堿制玻璃                           ②用煤炭作燃料
③用鐵礦石煉鐵                           ④用氨制碳酸銨
(4)目前,關(guān)于二氧化碳是否為大氣污染物有不同的觀(guān)點(diǎn)。認(rèn)為“二氧化碳不是大氣污染物”的理由是(填序號(hào))_________。
①二氧化碳是重要的化工原料
②二氧化碳是植物光合作用的必備原料
③二氧化碳是無(wú)色、無(wú)味、無(wú)毒的氣體
④除二氧化碳以外,甲烷、一氧化二氮等也是溫室氣體

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源:不詳 題型:單選題

下列關(guān)于SiO2和CO2的敘述中正確的是(  )。
A.兩者都是酸性氧化物,故都不與酸反應(yīng)
B.兩者都可以與NaOH溶液反應(yīng)
C.CO2的熔、沸點(diǎn)比SiO2
D.兩者都能與水反應(yīng)生成對(duì)應(yīng)的酸

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源:不詳 題型:單選題

在無(wú)機(jī)非金屬材料中,硅一直扮演者主要角色。下列物質(zhì)的主要成分不是SiO2
A.水晶B.瑪瑙C.石英D.硅芯片

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源:不詳 題型:單選題

下列說(shuō)法正確的是
A.SiO2溶于水顯酸性
B.CO2通入水玻璃可得硅酸
C.瑪瑙的主要成分是硅酸鹽
D.18K金常用來(lái)制作飾品,其熔點(diǎn)比純金高

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源:不詳 題型:單選題

下列物質(zhì)中不屬于硅酸鹽的是
A.陶瓷B.玻璃C.水晶D.水泥

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源:不詳 題型:填空題

清洗和制絨是硅晶片制作的重要步驟之一,硅片化學(xué)清洗的主要目的是除去硅片表面雜質(zhì)(如某些有機(jī)物,無(wú)機(jī)鹽,金屬、Si、SiO2粉塵等)。常用的化學(xué)清洗劑有高純水、有機(jī)溶劑、雙氧水、濃酸、強(qiáng)堿等。其中去除硅的氧化物,通常用一定濃度的HF溶液,室溫條件下將硅片浸泡1至數(shù)分鐘。制絨是在硅片表面形成金字塔形的絨面,增加硅對(duì)太陽(yáng)光的吸收。單晶制絨通常用NaOH,Na2SiO3等混合溶液在75~90℃反應(yīng)25~35 min,效果良好。
回答下列問(wèn)題
(1)能否用玻璃試劑瓶來(lái)盛HF溶液,為什么?用化學(xué)方程式加以解釋                          ;
(2)寫(xiě)出晶片制絨反應(yīng)的離子方程式                                   ,對(duì)單晶制絨1990年化學(xué)家Seidel提出了一種的電化學(xué)模型,他指出Si與NaOH溶液的反應(yīng),首先是Si與OH反應(yīng),生成SiO44,然后SiO44迅速水解生成H4SiO4。基于此原理分析反應(yīng)中氧化劑為                    。
(3)本校化學(xué)興趣小組同學(xué),為驗(yàn)證Seidel的理論是否正確,完成以下實(shí)驗(yàn):
 
實(shí)驗(yàn)事實(shí)
事實(shí)一
水蒸汽在600℃時(shí)可使粉末狀硅緩慢氧化并放出氫氣。
事實(shí)二
盛放于鉑或石英器皿中的純水長(zhǎng)時(shí)間對(duì)粉末狀還原硅無(wú)腐蝕作用。
事實(shí)三
普通玻璃器皿中的水僅因含有從玻璃中溶出的微量的堿便可使粉末狀硅在其中緩慢溶解。
事實(shí)四
在野外環(huán)境里,用較高百分比的硅鐵粉與干燥的Ca(OH)2和NaOH,點(diǎn)著后燜燒,可劇烈放出H2
事實(shí)五
1g(0.036mo1)Si和20mL含有l(wèi)gNaOH(0.025mol)的溶液,小心加熱(稍微預(yù)熱),收集到約1700mL H2,很接近理論值(1600mL)。
 
結(jié)論:從實(shí)驗(yàn)上說(shuō)明堿性水溶液條件下,H2O可作                劑;NaOH作              劑,降低反應(yīng)            。高溫?zé)o水環(huán)境下,NaOH作              劑。
(4)在太陽(yáng)能電池表面沉積深藍(lán)色減反膜——氮化硅晶膜。常用硅烷(SiH4)與氨氣(NH3)在等離子體中反應(yīng)。硅烷是一種無(wú)色、有毒氣體,常溫下與空氣和水劇烈反應(yīng)。下列關(guān)于硅烷、氮化硅的敘述不正確的是               。
A.在使用硅烷時(shí)要注意隔離空氣和水,SiH4能與水發(fā)生氧化還原反應(yīng)生成H2;
B.硅烷與氨氣反應(yīng)的化學(xué)方程式為:3SiH4+4NH3=Si3N4+12H2↑,反應(yīng)中NH3作氧化劑;
C.它們具有卓越的抗氧化、絕緣性能和隔絕性能,化學(xué)穩(wěn)定性很好,不與任何酸、堿反應(yīng);
D.氮化硅晶體中只存在共價(jià)鍵,Si3N4是優(yōu)良的新型無(wú)機(jī)非金屬材料。

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源:不詳 題型:填空題

(10分)硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣。請(qǐng)回答下列問(wèn)題:
(1)制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法,生產(chǎn)過(guò)程示意圖如下:

①寫(xiě)出由純制備高純硅的化學(xué)方程式:                         。
②整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水無(wú)氧。遇水劇烈反應(yīng)生成、HCl和另一種物質(zhì),配平后的化學(xué)反應(yīng)方程式為?                   ;還原過(guò)程中若混入可能引起的后果是?                 
(2)下列有關(guān)硅材料的說(shuō)法正確的是?       (填字母)。
A.碳化硅化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,可用于生產(chǎn)耐高溫水泥
B.氮化硅硬度大、熔點(diǎn)高,可用于制作高溫陶瓷和軸承
C.高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料——光導(dǎo)纖維
D.普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的,其熔點(diǎn)很高
E.鹽酸可以與硅反應(yīng),故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅
(3)硅酸鈉水溶液俗稱(chēng)水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中,逐滴加入稀硝酸,振蕩。寫(xiě)出實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象并給予解釋                         。

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