【題目】在一定溫度下的某恒容密閉容器中,建立下列化學(xué)平衡:C(s)+H2O(g) CO(g)+H2(g)?烧J(rèn)定上述可逆反應(yīng)在一定條件下已達(dá)到化學(xué)平衡狀態(tài)的是
A.體系壓強(qiáng)不再發(fā)生變化B.v正(CO)=v逆(H2O)
C.生成 n molCO 的同時(shí)生成 n mol H2D.1 mol HH 鍵斷裂的同時(shí)形成 2 mol HO 鍵
【答案】AB
【解析】
平衡的標(biāo)志:一是正反應(yīng)速率和逆反應(yīng)速率相等,二是體系中各物質(zhì)的質(zhì)量、物質(zhì)的量不變。
A.該反應(yīng)是個(gè)氣體分子數(shù)增加的反應(yīng),體系壓強(qiáng)不再發(fā)生變化,說(shuō)明體系中各成分的物質(zhì)的量不變,已達(dá)平衡,A正確;
B.由方程式可知,v正(CO)=v正(H2O),所以,v正(H2O)= v逆(H2O),已達(dá)平衡,B正確;
C.生成n molCO和生成n mol H2描述的都是正反應(yīng),C錯(cuò)誤;
D.1 mol HH 鍵斷裂的同時(shí)形成2 mol HO鍵,描述的都是逆反應(yīng),D錯(cuò)誤。
答案選AB。
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】2018年8月31日,華為公司發(fā)布AI芯片麒麟980,這標(biāo)志著我國(guó)高科技企業(yè)的芯片制造技術(shù)邁入國(guó)際領(lǐng)先水平。組成芯片的核心物質(zhì)是高純度硅。下圖是以石英砂為原料同時(shí)制備硅和金屬鋰。
已知:LiCl的熔點(diǎn)是605℃、沸點(diǎn)是1350℃;NH4Cl在100℃開(kāi)始揮發(fā),337.8℃分解完全。常溫下,Ksp[Fe(OH)3]=2.64×10-39,Ksp[Al(OH)3]=1×10-33。
(1)粗硅中常含有副產(chǎn)物SiC,請(qǐng)寫(xiě)出①中生成SiC的反應(yīng)方程式_______。寫(xiě)出②中的反應(yīng)方程式_______。
(2)請(qǐng)寫(xiě)出操作名稱(chēng):a_____;b_______。
(3)請(qǐng)寫(xiě)出試劑X是______。
(4)本生產(chǎn)工藝要求,要控制LiCl和NH4Cl溶液中的雜質(zhì)離子濃度在1.0×10-6mol·L-1以下,應(yīng)控制溶液的pH為_____,此時(shí)溶液中Fe3+的濃度為_______。
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】A、B、C、D四種易溶于水的化合物只由表中的八種離子組成,且四種化合物中陰、陽(yáng)離子各不相同。
陰離子 | Cl-、SiO32-、OH-、NO3- |
陽(yáng)離子 | H+、Ag+、Na+、K+ |
已知:A溶液呈強(qiáng)酸性,且A溶液與B、C溶液混合均產(chǎn)生白色沉淀,B的焰色反應(yīng)呈黃色。
回答下列問(wèn)題:
(1)寫(xiě)出A、B、C、D的化學(xué)式:A______,B_____,C____,D____。
(2)寫(xiě)出A溶液與B溶液反應(yīng)的離子方程式: __________。
(3)請(qǐng)選出適合存放A、C、D溶液的試劑瓶的序號(hào):
溶液 | A | C | D |
試劑瓶序號(hào) | ___ | ___ | ___ |
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】如圖所示裝置中觀察到電流計(jì)指針偏轉(zhuǎn),M棒變粗、N棒變細(xì),以此判斷下表中所列M、N、P物質(zhì),其中可以成立的是
選項(xiàng) | M | N | P |
A | 鋅 | 銅 | 稀硫酸溶液 |
B | 銅 | 鐵 | 稀鹽酸溶液 |
C | 銀 | 鋅 | 硝酸銀溶液 |
D | 鋅 | 鐵 | 硝酸鐵溶液 |
A.AB.BC.CD.D
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】下列有關(guān)2個(gè)電化學(xué)裝置的敘述正確的是
A. 裝置①中,電子移動(dòng)的路徑是:Zn→Cu→CuSO4溶液→KCl鹽橋→ZnSO4溶液
B. 在不改變總反應(yīng)的前提下,裝置①可用Na2SO4替換ZnSO4,用石墨替換Cu棒
C. 裝置②中采用石墨電極,通電后,由于OH-向陽(yáng)極遷移,導(dǎo)致陽(yáng)極附近pH升高
D. 若裝置②用于鐵棒鍍銅,則N極為鐵棒
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】可從鉛蓄電池中回收鉛,實(shí)現(xiàn)鉛的再生。在工藝中得到含Na2PbCl4的電解液,電解Na2PbCl4溶液后生成Pb,如圖所示。下列說(shuō)法不正確的是
A. 陽(yáng)極區(qū)會(huì)有氣泡冒出,產(chǎn)生O2
B. 一段時(shí)間后,陽(yáng)極附近pH明顯增大
C. 陰極的電極反應(yīng)方程式為PbCl42+ 2e Pb + 4Cl-
D. Na2PbCl4濃度下降后可在陰極區(qū)加入PbO,實(shí)現(xiàn)電解液的繼續(xù)使用
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】下列說(shuō)法正確的是( )
A. 鄰羥基苯甲醛的沸點(diǎn)比對(duì)羥基苯甲醛的高
B. 基態(tài)碳原子的最外層電子排布圖:
C. 原子核外價(jià)電子排布式分別為3s1和3s23p5兩種元素,不能形成AB2型化合物
D. 原子核外電子排布式為1s2的原子與原子核外電子排布式為1s22s2的原子化學(xué)性質(zhì)相似
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】對(duì)FeC13溶液與KI溶液反應(yīng)進(jìn)行探究實(shí)驗(yàn),按選項(xiàng)ABCD順序依次進(jìn)行操作,依據(jù)現(xiàn)象,所得結(jié)論錯(cuò)誤的是
A. AB. BC. CD. D
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】某工廠(chǎng)以重晶石(主要含BaSO4)為原料,生產(chǎn)“電子陶瓷工業(yè)支柱”——鈦酸(BaTiO3)的工藝流程如下:
回答下列問(wèn)題:
(l)為提高BaCO3的酸浸速率,可采取的措施為__(寫(xiě)出一條即可);常溫下,TiCl4為液體且易水解,配制一定濃度的TiCl4溶液的方法是 ____。
(2)用Na2CO3溶液浸泡重晶石(假設(shè)雜質(zhì)不與Na2CO3反應(yīng)),能將BaSO4轉(zhuǎn)化為BaCO3,此反應(yīng)的平衡常數(shù)K= ___(填寫(xiě)計(jì)算結(jié)果);若不考慮CO32-的水解,要使2. 33g BaSO4恰好完全轉(zhuǎn)化為BaCO3,則至少需要濃度為1.0mol·L-1Na2CO3溶液 ___mL。(已知:Ksp(BaSO4)=1.0×10-10、Ksp(BaCO3)=5.0×10-9)
(3)流程中“混合”溶液的鈦元素在不同pH時(shí)主要以TiO(OH)+、TiOC2O4、TiO(C2O4)22-三種形式存在(變化曲線(xiàn)如右圖所示)。實(shí)際制備工藝中,先用氨水調(diào)節(jié)混合溶液的pH于2.8左右,再進(jìn)行“沉淀”,其反應(yīng)的離子方程式為____;圖中曲線(xiàn)c對(duì)應(yīng)鈦的形式為____(填粒子符號(hào))。
(4)流程中“濾液”的主要成分為____;隔絕空氣煅燒草酸氧鈦鋇晶體得到鈦酸鋇粉體和氣態(tài)產(chǎn)物,試寫(xiě)出反應(yīng)的化學(xué)方程式:____。
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