某研究小組模擬工業(yè)無隔膜電解法處理電鍍含氰廢水,進(jìn)行以下有關(guān)實(shí)驗(yàn).填寫下列空白:
實(shí)驗(yàn)Ⅰ:制取次氯酸鈉溶液.
用石墨做電極電解飽和氯化鈉溶液制取次氯酸鈉溶液,設(shè)計(jì)圖1所示裝置進(jìn)行實(shí)驗(yàn).
(1)電源中,a電極名稱是
.
(2)反應(yīng)時(shí),生成次氯酸鈉的離子方程式為
.
實(shí)驗(yàn)Ⅱ:測定含氰廢水處理百分率.
利用所示裝置(圖2)進(jìn)行實(shí)驗(yàn).將CN
-的濃度為0.200 0mol?L
-1的含氰廢水100mL與100mL NaClO溶液(過量)置于裝置②錐形瓶中充分反應(yīng).打開分液漏斗活塞,滴入100mL稀H
2SO
4,關(guān)閉活塞.
已知裝置②中發(fā)生的主要反應(yīng)依次為:CN
-+ClO
-═CNO
-+Cl
-,2CNO
-+2H
++3ClO
-═N
2↑+2CO
2↑+3Cl
-+H
2O
(3)①和⑥的作用是
.
(4)裝置②中,生成需由裝置③除去的物質(zhì)的離子方程式為
.
(5)反應(yīng)結(jié)束后,緩緩?fù)ㄈ肟諝獾哪康氖?!--BA-->
.
(6)為計(jì)算該實(shí)驗(yàn)中含氰廢水被處理的百分率,需要測定
的質(zhì)量.
(7)上述實(shí)驗(yàn)完成后,為了回收裝置③中的CCl
4需要的操作是
.
(8)若要研究裝置②中所加稀硫酸的最佳濃度,請?jiān)O(shè)計(jì)利用該裝置進(jìn)行實(shí)驗(yàn)的記錄表.
要求:①在進(jìn)行理論判斷后,將理論濃度作為第一組實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù);②記錄表要體現(xiàn)實(shí)驗(yàn)過程中的不變量、自變量、因變量;③可將提供的方框作為表的外邊框使用.